根据集微网，台积电已经向目前所有大陆AI芯片客户发送正式电子邮件，宣布自下周(11月11日)起，暂停所有的7nm含7nm以内的芯片给中国大陆客户AI/GPU客户供应所有7nm及更先进工艺制程的芯片。

光学系统是光刻机的核心，光刻机制程越小，对光学系统的精度要求越高，国产化率极低，建议关注光刻机光学核心零部件企业:茂莱光学、福光股份、福晶科技、腾景科技、炬光科技等企业。

不同于DUV光刻机的物镜系统，EUV光刻机采用的是带有镀膜的非球面镜组成的离轴反射系统，难点主要在于原子级平整度要求。由于EUV能量很高，可以引起反射镜表面的化学反应和损伤。反射镜需要通过高度纯净的材料和表面镀层，同时也需要非常精确的表面形状和光学特性来最小化能量损失。镀膜方面，由钼和硅的交替纳米层制作、最高达100层，且多层膜厚度误差在
0.025nm (原子级别)。平整度方面，非球面镜面型精度误差低于0.25nm。因此EUV反射镜被誉为“宇宙中最光滑的人造结构”。建议关注真空镀膜设备相关企业:汇成真空、磁谷科技。