两个唯一：

（1）国内唯一光刻胶产业链自主的企业，具备光酸、树脂、单体、溶剂、光刻胶生产能力；（光刻胶原料自主控制）

（2）国内唯一能够生产 A 胶的企业，且即将在头部晶圆厂放量，近期与头部晶圆厂的合作有突破性进展。

光刻胶尺度由 G 线(436nm)→I 线(365nm)→KrF(248nm)→ArF(193nm)的方向转移，同时难度越高。

 

国内视角厂商多集中于中低端市场，北京科华和徐州博康已能量产KrF光刻胶。当前国内光刻胶企业多分布在技术难度较低的PCB光刻胶领域，占比超9成，而技术难度最大的半导体光刻胶市场，国内仅有彤程新材（北京科华）、华懋科技（徐州博康）、南大光电、晶瑞电材和上海新阳等少数几家，根据测算我们认为其2021年全球市场份额合计不超过5%，且产品主要集中在相对低端的G/I线光刻胶，目前国内北京科华、徐州博康等企业已经能实现KrF光刻胶量产。