光刻机造芯片过程中，需要清洗，清洗过程中需要用到超纯水，台积电的3nm工厂一天用水量就高达13万吨，约等于7500辆拉水车的容量，目的是为了生产超纯水用于整个芯片制作过程中的湿法清洗。目前超纯水的生产设备基本都被国外垄断

超纯水的市场规模有300亿人民币以上；

而沃顿科技一直在自主研发超纯水膜，公司相关互动易+会议纪要都有提示，最近在公众号成功研发UE系列超纯水膜产品，并已应用于多个半导体行业项目，并制定超纯水膜产品标准；

https://mp.weixin.qq.com/s/d1Ld5J4-w3r3OfGaOsNkrw

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