8.10更新韩国第一篇论文图片就标注了硫化亚铜的含量,非常低,这应该是有预判的。中科院说:“在 385 K 左右 Cu_2S 的电阻率显著降低,从 385.6 K 时的 13.7 Ohm cm 降低到 381.5 K 时的 0.006 Ohm cm”,因为没降到0,所以不是“室温超导”。中科院完全验证了韩国人的成果,就是玩概念玩文字游戏争论是不是“室温超导”。韩国LK团队零电阻的论文,是3月31号,用韩语投递的。상온상압 초전도체(LK-99) 개발을 위한 고찰韩国论文机翻中文:如何看待韩国量子能源中心使用热蒸镀法测得LK-99薄膜出现的室温下零电阻现象?带图如何看待韩国LK-99蒸镀薄膜专利申请,和arXiv烧结法论文相比,新增了大量数据?专利翻译中文这么重要的论文居然一点动静都没有论文中提到的测量设备,一万多美元,最大电流100毫安。这里面介绍的LK99的零电阻测量,已经由量子科技公司(LK99公司)用【薄膜法】完成了。 最大信息点,这次透露出来的LK99并不是炼丹炉生成的石头,而是用蒸镀工艺做出来的薄膜LK99,这是这真正的高科技,韩国人还是留一手的。凭良心说话,韩国的薄膜蒸镀工艺是世界一流的,我国也是近年才掌握初级的,用于OLED面板蒸镀。而且这次透露出来的用于测试的LK99薄膜大小是15*15厘米的大小,这难度是相当大的。这次透露出来纯粹是因为团队内讧,否则研究还在秘密进行。人家在3.31日的韩国国内期刊发表的论文里已经有数据证明观测到零电阻!大家只关心8月的内讧论文!全世界科研人被韩国人摆了一道,都被误导去炼丹烧石头了。金炫卓教授接受采访不是都说了嘛,人家正在采用新工艺制备高纯度样品,原计划明年才在美国物理学会上发表相关论文。金教授专业之一就是搞薄膜工艺的。现在看韩国能源工科大学的陈述,人家LK-99公司,2017年就来找薄膜大拿,韩国能源工业大学说薄膜制备的事了,但是当时自己的工艺还不成熟,工作没法开展。现在能源工科大学还在打马虎眼,说一个多月前才拿到材料,开始初步工作。要么是打马虎眼,要么,LK公司在做薄膜测电阻的时候,找了另外的合作伙伴。0电阻人家韩国早就做出来了,而且快到应用的程度了!韩国人发了个制备陶瓷的工艺,占了铅磷铜的坑,隐藏了真实工艺。真实工艺是把上一步合格的铅磷铜再做成蒸汽,镀成膜,这层膜才有零电阻。之前各路测试的都带坑里了。蒸汽镀膜(气相沉积)是钇钡铜氧超导的制作工艺,也是OLED液晶屏的制作工艺,国内这些搞材料的怎么没想到?韩联社:开发出室温超导体“LK-99”的量子能源研究所已与韩国能源工程研究院签署了研究协议使用这种材料。据量子能源研究中心和能源工程学院4日消息,两机构于5月24日签署了谅解备忘录(MOU),相互合作开发基于室温和低温的薄膜沉积应用。常压超导体。朴副院长说:“在我们的研究领域,如功率半导体、电线等,如果能展现超导特性将是很好的。”他补充道:“为了在专业领域进行一次应用尝试,我们正在进行基本的测量和分析。” 朴副院长说:“这种材料的成分相对简单且容易获得”,并表示:“由于Quantum Energy Research Institute使用的是陶瓷基底,实现薄膜的困难,我们正在利用我们自己的半导体工艺进行研究。”采访链接 퀀텀에너지-에너지공대 연구협약했다…LK-99 샘플 분석중 | 연합뉴스金炫卓教授的采访自己都说了要准备搞电线。现在是工艺改进外加应用方面的探索,因为这个朴副院长是搞薄膜的。韩国人研究了20多年,怎么可能一下把制造工艺都公开让人摘桃子?他们想至少等他们工业化生产后,你才可能在实验室里做出来。韩国能源工科大学,背后大靠山是韩国电力公司,韩国电力公司是国有垄断公司,即使亏损不断,也向韩国能源工科大学提供了700亿多韩元支持,也就是说超导研究得到了韩国国家力量的支持。韩国人想独吞整个产业链的利润,至少吃大头,不料半途有人内讧。权英完因为不满署名名次,背着团队,向世界爆了出来,但也只是忽悠大家烧炉子。发表了两个预印本,告诉大家怎么烧炉子,怎么半悬浮,一举震惊了世界,全球掀起烧炉潮,这是7月22号前后的事。你们都没想过一点吗?韩国人傻?研究了这么个逆天的玩意,就毫无保留的都宣扬出来?让全世界研究,谁能这么大公无私?就算他想,他美爹也不同意啊。韩国人有所保留才是正常的。真把所有秘密一股脑公布出来?然后让别人摘桃子?那才真是傻了要不是权教授为了挣个青史留名的机会,这事搞不好还不知道得多少年我们才知道,那时候美国的武器已经更新换代了。我们看到的论文描述的是第一版工艺,他们六年间都改进了不少工艺了,不然也不会在这几年几个月内申请专利和找人提高薄膜制法的工艺水平。LK-99相关专利介绍如下:1. 国际专利 WO2023027536A1 (PCT/KR2022/012773),申请日期2022-08-25韩文链接:https://patents.google.com/patent/WO2023027536A1英文链接:https://patents.google.com/patent/WO2023027536A1/enWIPO:WO2023027536黑白PDF,图片质量惨不忍睹,内容与下方韩国专利KR20230030188A几乎相同2. 国际专利 WO2023027537A1 (PCT/KR2022/012774),申请日期2022-08-25韩文链接:https://patents.google.com/patent/WO2023027537A1英文链接:https://patents.google.com/patent/WO2023027537A1/enWIPO:WO2023027537只申请了国际,未搜索到母专利黑白PDF,包含制备步骤、晶体结构、检测数据等较多图表,一些图与论文内相同3. 韩国专利 KR20230030188A,申请日期2021-08-25常温常压超导陶瓷化合物及其制备方法链接:https://patents.google.com/patent/KR20230030188A彩色PDF,与专利解读视频内PDF一致,包含大量文字/图表数据,共42张图这一专利中样品均为薄膜状,专利内容也与镀膜相关4. 韩国专利 KR20230030551A,申请日期2021-08-25链接:https://patents.google.com/patent/KR20230030551A与KR20230030188A内容基本相同5. 早期韩国专利 KR20210157461A,申请日期2020-07-24或更早(2019年)包含超导体的低电阻率陶瓷复合材料及其制备方法链接:https://patents.google.com/patent/KR20210157461A未被互联网发现,这一专利除文字内容外只有寥寥几副图(如NRMA和MAMMA图像),可见当时的测量数据极不完整值得注意的是,KR20210062550A的专利名是《包含超导体的低电阻率陶瓷复合材料及其制备方法》,而KR20230030188A的专利名是《常温常压超导陶瓷化合物及其制备方法》,由deepl翻译另附提及LK-99专利的一篇韩语新闻:http://www.e-patentnews.com/10044韩国那团队2021年就把制作方法申请专利了,今年刚公示,那专利里讲的就是薄膜。LK-99室温超导专利讲解:最新!!LK-99室温超导专利讲解_哔哩哔哩_bilibili韩国株式会社量子能量研究所申请的两篇与LK99有关的专利00:01 - LK99研究团队在韩国申请了两篇与LK99相关的专利01:21 - 两篇专利的权力要求范围相似,主要区别在于要求范围05:27 - 从属权利要求暂略过,独立权利要求要求保护重要特性二、本专利保护的是通过增度或沉积方法合成陶瓷化合物的权利要求,需要满足化学式和结构的保护,并限定制造方法为增幅法。05:58 - 要求保护通过增度或沉积方法得到的陶瓷化合物07:44 - 限定制造方法必须使用增幅法11:19 - 陶瓷化后的组分关系用图示出来三、陶瓷化合物的超导性数据判断方法,包括横坐标代表磁化率、纵坐标代表温度等。同时,还展示了超导体的特性曲线和数据。11:54 - 陶瓷化合物的强度和磁化率数据13:37 - 陶瓷化合物的超导性数据判断方法16:02 - 超导特性的薄膜磁化率和温度数据四、陶瓷化合物在不同磁场和温度下的磁化率、电流和电压特性、结构模型、SD分析曲线和化学成分等内容。17:49 - 测量了陶瓷化合物的磁化率和实验值20:04 - 测量了陶瓷化合物的I电流和电压特性22:58 - 展示了陶瓷化合物的结构模型和温度随温度变化的电阻变化五、该专利涵盖多种材料,包括磷灰石、磷酸铅和LTT,并展示了其随温度变化测量电流和电压关系的曲曲线图。保护范围广泛。23:44 - 磷灰石占48.9%的体积百分比26:29 - 图41是实时测量电阻和温度关系的实验照片29:32 - 专利保护范围广,需请求保护--本内容基于视频内容由模型生成,仅供参考专利附图,有明确的电阻率单位红线是我根据铜的1.7 mOhm-cm的数据做的参考线。如果我关于铜的数据错了,请提醒我。这个数据,是用的薄膜法的数据。这是公开发表的论文,不是预印本的。相变温度,是370度。不是385度。我知道这很接近。但他不是。有15度的差距。另外,电阻率,基本是归零了。铜:1.7x10-3次方Ohmcm(欧姆厘米)。薄膜LK99的某一次测量:3.975x10-11次方。铜的电阻,是LK薄膜的:4.2x10+7次方。4千多万倍!这是LK99专利书中的测试结果截屏。在专利书中,针对蒸镀法制作出来的LK-99薄膜,各个区域的电子扫描电镜照片都出来了。你们手上只有块状物的人还吵个锤子。LK99的专利,已经把几个区的元素一网打尽了。想替换某个元素,优化某个元素,没用的。凡是符合这个A(a)B (b)(EO4)(c)X(d),A是铅这一区的所有元素及其【组合】,无论你是几个(a)B是铜这一区的所有元素及其【组合】,无论你是几个(b)E是磷这一区的所有元素及其【组合】,无论你是几个(c)X是氧和氯这一区的所有元素及其【组合】,无论你是几个(d)。想置换一下同区元素,或者打个组合拳,或者多几个单位,都没戏。所有变量,全给你卡死。只要是这个化合物。像什么硫化亚铜这些,您随便整,没关系。核心来了哈:只要把材料用蒸镀,或者沉积方法进行工艺加工的,属于权利保护范围。。。。也就是说,薄膜法,人家不仅研制成功了,而且申请了专利了。看韩国语说的是:超导性세라믹化学物质的制作方法,它的特征是 :1.原材料蒸镀,2, 还包含的一道工序是合成세라믹化学物质的工序。这道工序是根据上图所示的化学物质所制作的。(如果我没有理解错的话)另外세라믹我猜测是什么混合,如果中文翻译是沉淀的话。这个这个制作方法的全称就是:超电导性沉淀化学物质的制作方法原料你随便买,只要出这个成品,就要给人交钱。就算买来成品,只要用了蒸镀法,就要给人交钱。和手机那些专利一样,一本万利。也就是说,如果你的成品想销往全世界就得给专利费,除非你不和外界打交道?你自己看它专利的保护工艺,是公布的论文的工艺吗?人家只是把6年前的最开始发现的这个材料告诉你怎么制备,而且那个材料难复现,副产物多。你看他专利涉及的范围,就是堵死你们以后研究氧化物常温常压这条路,就是冲着垄断产业链去的,人家哪里在乎什么诺贝尔奖。人家两个博士靠四处乞讨过日,24年的不断失败的尝试,没有几个人能做到坚持不懈的继续下去。辛辛苦苦熬了24年,咋了你不服?LK另起炉灶,砸了全世界超导行业的饭碗,现在是行业公敌。最新!!LK-99样品结构被第三方机构验证!!这篇新闻出处找到了_哔哩哔哩_bilibili韩国能源技术研究所KENTECH接受了韩国《数字时报》采访,他们大约一个月前收到原始样品,通过X射线衍射分析确认收到样品晶体结构与论文中呈现的相同。不过研究人员表示,“到底是否是超导体是学术界要管的事情,我们只对这种新材料的电学特性感兴趣”。他们认为,这种新材料即使不是超导也有很多应用,“这些材料非常便宜,并且在室温下电阻非常低”。一般,一个实验室,敢把自己的新材料交给其他实验室验证,都是已经把这新材料玩烂了,该搜集的都搜集了,该整的都整完了,才敢放出去。就怕人家拿着你的样品,发现了新东西,抢在你前面发牛逼的论文。一般都有一年左右的领先。 LK99案情之复杂,已经超出了一般人的理解力。中国这一批顶级机构的论文,令人相当失望。直接就是智商级的硬伤,将来很可能沦为笑柄。除非他们是奉旨办事。这次,中国物理学界(不包含硕士生、博士生等在读学生),除了兰大等少数几个外,基本上是全军尽墨?人家都说了一维超导千万别在块状物上测电阻,就是一大堆人偏偏就是不听,不去测磁属性,非要测电属性,结果被人家提前几个月准备好的大铁锤,一锤砸成肉泥?两个博士。一个还是玩化学玩得极牛逼的博士。人家本科就是化学路上来的。后来又去搞电池,专业的电化学专业。人家不知道样品提纯?要被残留硫酸亚铜给绕到坑里?人家用气相沉积,不仅提纯了LK99,而且还把不同超导属性的LK99给筛出来了。这都是人家写在专利里的,好好去看看人家的水平。【韩国金教授展示LK-99最新薄膜制品-哔哩哔哩】b23.tv/j74txAn中国的薄膜技术和韩国差得不是一点点,薄膜技术突然由普通高科技变成战略高科技,韩日美肯定会中国进行技术封锁,等中国追赶5-10年,再放开封锁,倾销。这期间韩国人利用先发优势、专利壁垒,薄膜技术壁垒,可以迭代几次产品。更要命的是,利用常温超导,加快发展人工智能、可控核聚变,如果再点亮这两个王炸科技树,第四次工业革命就彻底由他们主导了,继续压中国一头。不谋万世者,不足谋一时;不谋全局者,不足谋一域。韩国人4月的0电阻论文 https://doi.org/10.6111/JKCGCT.2023.33.2.061
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