笔者并没有说光刻机会被取代，更没有说光刻机不会被投资，相反，笔者一直认为光刻机是投资的重点，整个平台笔者就大基金三期发的帖子最多，张江高科提的也最多，而且笔者今天也买了张江高科，之所以提示沃格，是因为沃格那个时候跌4%，机会属实难得，而且光刻机和玻璃基板也根本就不矛盾，不知道某些小散为何会误解我的意思。这就好比，经常提到的弯道超车，难道走了弯道就不发展直道了吗？肯定也要发展。

言归正传，进入正题。

国家大基金三期的目的是什么？

主要有两个， 

1.硅基晶圆突破卡脖子-卡脖子的关键是：28nm、14nm、7nm先进制程产业链，包括光刻、先进封装、掩膜、EDA等，其中设备又是重点。

 2.弯道超车-弯道超车的关键是什么：新技术，比如量子、光子、第三代半导体、TGV玻璃通孔等

目前我们哪个领域极待解决以上两个问题? 答案是AI算力和存力，包括GPU（服务器用）、CPU（AI终端用）、HBM（存力）

那么显而易见，AI方向会是重点（当然了，除了AI还有其他方向，但这里我们只说AI）。

AI的算力方向，除了硅基之外，目前比较被看好的实现弯道超车的有三种路线：量子、光子、TGV。硅基方向要靠光刻机和先进封装突破卡脖子，而弯道超车方向，因为TGV玻璃通孔比量子和光子更容易产业化，量子和光子产业化还太遥远，所以，TGV玻璃通孔或是弯道超车的首选。