近日

国产半导体专用光刻胶领域实现重大突破！

武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。

相较于国外同系列产品UV1610，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。

太紫微公司成立于2024年5月，由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。团队主攻关键光刻胶底层技术研发，已在电子化学品领域深耕20多年。

该公司科研人员介绍，光刻胶是一种感光材料，用于芯片制造的光刻环节，工作原理类似于照相机的胶卷曝光。

芯片制造时，会在晶圆上涂上光刻胶，在掩膜版上绘制好电路图。当光线透过掩膜版照射到光刻胶上会发生曝光，经过一系列处理后，晶圆上就会得到所需的电路图。

 近期

还有哪些光刻胶相关的大动作？

佳先股份联营企业英特美（供货徐州博康）

年产500吨光刻胶单体下线，10月18日，安徽佳先功能助剂股份有限公司联营企业安徽英特美科技有限公司（以下简称“英特美”）年产500吨光刻胶单体对乙酰氧基苯乙烯正式下线。

 英特美光刻胶单体项目去年10月底全面开工，经过前期试生产，目前英特美光刻胶单体已产出合格产品。此次该产品的顺利下线，标志着英特美实现了生产端与市场端的有序衔接。

 英特美光刻胶单体对乙酰氧基苯乙烯是光刻胶用量最大的一种单体，可用于合成作为光刻胶主要成分的聚对羟基苯乙烯，聚对羟基苯乙烯系列的化学增幅型光致抗蚀剂是目前国际上主流的光致抗蚀剂产品，是用于处理光蚀刻集成电路、制造芯片的关键技术之一。

 徐州博康项目年产1406吨光刻材料及152吨光刻胶

近日，关于徐州博康信息化学品有限公司年产1406吨光刻材料及152吨光刻胶技改项目在相关网站公示。

目前，徐州博康实现“单体-树脂、光酸-光刻胶”全产业链覆盖。已成功开发ArF/KrF单体及光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶系列产品近百款。其中，ArF-immersion产品已经适用于28-45nm制程，可扩展至14nm。

徐州博康生产基地位于徐州市邳州经济开发区。新工厂于2021年上半年完成建设，已正式投产，达产后可实现1100吨光刻材料及10000吨电子级溶剂的规模化生产。

 杜邦光刻胶新工厂投产！

 产能翻番！

 10月4日，杜邦公司位于日本新泻县的Sasakami工厂光刻胶产能扩建项目建成投产。杜邦在Sasakami工厂原有的基础上，新建了一座名为East Star的新工厂，此次扩建使该工厂的光刻胶产能几乎翻了一番。

此外

湃邦（浙江）新材料有限公司半导体光刻胶项目8月8日在浙江海宁举行投产仪式

据悉，湃邦半导体、平板显示用光刻胶及相关电子材料项目，主要进行年产100吨硅基光刻胶、50吨有机光刻胶500、50吨有机光刻胶400、200吨电子硅基封装胶生产线及公配设施的建设。

资料显示，湃邦（浙江）新材料有限公司是湃邦（芬兰）有限公司在中国投资的全资子公司，并由湃邦芬兰提供生产工艺支撑。

 光刻胶身上有什么魅力？

为什么备受“热捧”？

光刻胶

光刻胶又名“光致抗蚀剂”，光刻胶具有光化学敏感性，通过利用光化学反应，并经曝光、显影、刻蚀等光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，是一种图形转移介质。

光刻胶广泛应用于半导体制造、平板显示屏、PCB（印刷电路板）制造及LED产业等领域。

光刻胶组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。

从成本结构来看，光刻胶树脂成本占比最大接近50%，其次添加剂（单体）成本占比约为35%，光引发剂及其他助剂成本占比15%。

光刻胶树脂是由成膜树脂等构成。成膜树脂用于将光刻胶中不同材料聚合在一起，构成光刻胶的骨架，决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性。

常见光刻胶（包括G线、I线、KrF、ArF、EUV五类）

 国产光刻胶走到了哪一步？

 从市场来看，全球光刻胶供应高度集中，核心技术掌握在日、美等国际大公司手中，日本的JSR、东京应化、住友化学、信越化学及富士胶片占据了全球70%以上的市场份额，加上杜邦，美日6家企业光刻胶的市场占有率接近90%。

 目前，中国半导体光刻胶国产化率仍处于较低水平。数据显示，其中KrF、ArF光刻胶对外依赖最为严重，国产化率均仅在1%水平。

 西部证券指出，中国半导体光刻胶市场超90%主要依赖进口，本土厂商虽起步较晚，但目前处于国产化加速期。

 

佳先股份、彤程新材、华懋科技、晶瑞电材、上海新阳等国内公司均有G/I线、KrF、ArF胶布局。

佳先股份：公司掌握全市场最核心光刻胶资产：英特美打破光刻胶上游乙酰氧基苯乙烯国外垄断，并供货给徐州博康（华为哈勃投资二股东）。同时剩余70%英特美股权大部分在国资委手中，剩余英特美的股份已被质押给了国资委，光刻胶资产全部注入佳先股份的预期强烈。

徐州博康是国内光刻胶绝对头部企业。佳先股份于9月26日公告，新产品对乙酰氧基苯乙烯签订5160万元销售合同。10月18日公告，联营企业英特美年产500吨光刻胶单体对乙酰氧基苯乙烯顺利下线。

 

彤程新材：在2024年半年度业绩报告中提到，ArF光刻胶已开始连续接单量产并产生营收。

 

上海新阳：称KrF光刻胶已有销售，销量逐步增加，合肥工厂目前在试生产阶段。

 

晶瑞电材：在互动平台表示，公司子公司瑞红苏州拥有紫外宽谱系列光刻胶、g线系列光刻胶、i线系列光刻胶等近百种型号半导体光刻胶量产供应市场，在高端光刻胶方面，已有多款KrF光刻胶量产，ArF光刻胶多款产品已向客户送样。

 

鼎龙股份：称已开发出7款KrF光刻胶产品，包括1款能达到KrF极限分辨率120nm L/S 和130nm Hole的光刻胶。

 

八亿时空：上海半导体项目已成功实现KrF光刻胶用PHS树脂百公斤级别的量产。

 

飞凯材料：光致抗蚀剂产品包括应用于半导体领域的i-line及KrF光刻配套Barc材料。