光刻机是国内最受关注的半导体设备，也是严重被卡脖子的设备，它的主要作用就是进行光刻制造。以2022年为例，全球前道光刻设备市场规模约为190亿美元，其市场份额在晶圆生产设备中占比为20%，仅次于刻蚀设备。 晶圆生产设备市场份额占比如需了解半导体行业各流程工艺的介绍，欢迎点开主页

一步一图，了解光刻机的工作原理icguide​华中科技大学 软件工程硕士57 人赞同了该文章光刻机是半导体工业中的关键设备，主要用于制造芯片中的微小结构。它通过将掩模上的图形投影到硅片上，并使用紫外线照射硅片表面，使其形成微小的结构。ASML光刻机本文将从光刻机的构成、工作原理、曝光过程和曝光技术等

外交部回应美国调查华为最新手机芯片：制裁打压只会增强中国的决心和能力财联社电，今天的外交部例行记者会上，有记者提问称，美国政府已经开始对用于华为最新手机的芯片展开调查。对此，中国外交部发言人毛宁表示，我们一贯反对将经贸科技问题政治化，反对滥用和泛化国家安全概念。美国滥用国家力量，无理打压中国企业，违

    中航证券：光刻机深度：筚路蓝缕，寻光刻星火光刻为IC制造核心工艺，光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本，在瑞利公式：CD=1/的指导下，人类在缩短波长，增大数值孔径NA，降低工艺因子1三个方面展开探索，目前已实现13.5nm

能否介绍一下光照环节的具体技术细节?光照是光刻中的一个环节。这里面涉及一个金属化的过程，也就是离子注入，一般会在硅基底层上布置金属层，然后在金属层上附上光刻胶。利用紫外线或是极紫光穿过掩模版照在光刻胶上。接下来用溶解剂清洗掉残留物，就保留Wafer上的线路。光刻是一个复杂反复的过程，之后还有很多步骤

【华泰通信王兴团队】 【核心观点】产业趋势扑面而来，重点布局卫星互联网核心标的 【板块思考】 1、产业的趋势已经确证，不用怀疑：火箭侧，卫星制造侧，下游应用侧都得到了反复确认，火箭运力大幅度提升，成本快速下降。 2、美国的科技革命也是一手Chatgpt，一手Starlink，无论是中美脱钩还是新科

光刻机路线 1、上微（中科院）走ASML路线，全程规避美规。采用1X千瓦/50Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶。 2、广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器这个路线，截止2022年他们做出了40Khz的液态锡滴发生器并且打靶产生了

光刻机路线 1、上微（中科院）走ASML路线，全程规避美规。采用1X千瓦/50Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶。 2、广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器这个路线，截止2022年他们做出了40Khz的液态锡滴发生器并且打靶产生了

中芯国际通过多重光刻技术，实现了MATE60的完全国产化，是国产半导体行业的里程碑；这意味着在美国制裁高端光刻机的背景下，通过低端光刻机+多重光刻技术可以弯道实现7nm芯片1、事件：MATE60的国产化引起市场发酵。据彭博社报道，中芯国际用交旧的ASML 光刻机，采用多重光刻法，通过4次或更多次光刻

光刻胶是精细化工行业技术壁垒最高的材料，被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。光刻胶在芯片制造材料成本中的占比高达12%，是继大硅片、电子气体之后第三大IC制造材料，是半导体产业关键材料。得益于技术节点不断进步以及存储器层数的增加，半导体光刻胶需求持续增长。2022年全球半导体光刻胶市场规模近23亿

光刻胶是精细化工行业技术壁垒最高的材料，被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。光刻胶在芯片制造材料成本中的占比高达12%，是继大硅片、电子气体之后第三大IC制造材料，是半导体产业关键材料。得益于技术节点不断进步以及存储器层数的增加，半导体光刻胶需求持续增长。2022年全球半导体光刻胶市场规模近23亿

一文看懂国产芯片崛起必经之路---国产光学系统！（附股）25,198人浏览2023-08-31 09:23风口情报：光刻机是半导体设备中最昂贵、最关键、国产化率最低的环节，全球光刻机市场被荷兰 ASML、日本佳能、尼康三大巨头垄断。光学系统是光刻机的核心，光刻机制程越小，对光学系统的精度要

彭博社委托半导体行业观察机构TechInsights对华为新机进行了拆解，并在星期一（9月4日）报道称，拆解显示，Mate 60 Pro所使用的新型麒麟9000s芯片，由中国顶级芯片制造商中芯国际制造，并采用了中芯国际最先进的7纳米芯片技术。 众所周知，由于丑国制裁的原因，中芯国际只有28

你要明白一件特别清晰的事情就是，游资其实就是个钱稍微多点的积极参与市场的活跃的大散户而已，是人类，只要是人类，你作为小散户，迷你小韭菜，你也是一个人类，人类和人类是一个种族。你通过努力学习研究是可能能成为优秀的大散户群体中的一员。 量化则不然，我就说一个点就是a股百分之90以上都是中小个人投资者，a

这几天说量化在风口浪尖不为过，公社里两篇相关文章我觉得写的很好，起码从不同视角揭开了很多量化不为人知的一面。没看过的可以去看看，链接： 1.量化：披着科技外衣追涨杀跌，成建制的消灭市场有生力量 2.限制量化交易应从制度性不公入手 网上不同观点碰撞，有支持量化的，有讨伐量化的。你要问我的观点，我总的观

 光刻机是国内最受关注的半导体设备，也是严重被卡脖子的设备，它的主要作用就是进行光刻制造。以2022年为例，全球前道光刻设备市场规模约为190亿美元，其市场份额在晶圆生产设备中占比为20%，仅次于刻蚀设备。 晶圆生产设备市场份额占比如需了解半导体行业各流程工艺的介绍，欢迎点开主页

一步一图，了解光刻机的工作原理icguide​华中科技大学 软件工程硕士57 人赞同了该文章光刻机是半导体工业中的关键设备，主要用于制造芯片中的微小结构。它通过将掩模上的图形投影到硅片上，并使用紫外线照射硅片表面，使其形成微小的结构。ASML光刻机本文将从光刻机的构成、工作原理、曝光过程和曝光技术等

外交部回应美国调查华为最新手机芯片：制裁打压只会增强中国的决心和能力财联社电，今天的外交部例行记者会上，有记者提问称，美国政府已经开始对用于华为最新手机的芯片展开调查。对此，中国外交部发言人毛宁表示，我们一贯反对将经贸科技问题政治化，反对滥用和泛化国家安全概念。美国滥用国家力量，无理打压中国企业，违

    中航证券：光刻机深度：筚路蓝缕，寻光刻星火光刻为IC制造核心工艺，光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本，在瑞利公式：CD=1/的指导下，人类在缩短波长，增大数值孔径NA，降低工艺因子1三个方面展开探索，目前已实现13.5nm

能否介绍一下光照环节的具体技术细节?光照是光刻中的一个环节。这里面涉及一个金属化的过程，也就是离子注入，一般会在硅基底层上布置金属层，然后在金属层上附上光刻胶。利用紫外线或是极紫光穿过掩模版照在光刻胶上。接下来用溶解剂清洗掉残留物，就保留Wafer上的线路。光刻是一个复杂反复的过程，之后还有很多步骤

【华泰通信王兴团队】 【核心观点】产业趋势扑面而来，重点布局卫星互联网核心标的 【板块思考】 1、产业的趋势已经确证，不用怀疑：火箭侧，卫星制造侧，下游应用侧都得到了反复确认，火箭运力大幅度提升，成本快速下降。 2、美国的科技革命也是一手Chatgpt，一手Starlink，无论是中美脱钩还是新科

光刻机路线 1、上微（中科院）走ASML路线，全程规避美规。采用1X千瓦/50Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶。 2、广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器这个路线，截止2022年他们做出了40Khz的液态锡滴发生器并且打靶产生了

光刻机路线 1、上微（中科院）走ASML路线，全程规避美规。采用1X千瓦/50Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶。 2、广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器这个路线，截止2022年他们做出了40Khz的液态锡滴发生器并且打靶产生了

中芯国际通过多重光刻技术，实现了MATE60的完全国产化，是国产半导体行业的里程碑；这意味着在美国制裁高端光刻机的背景下，通过低端光刻机+多重光刻技术可以弯道实现7nm芯片1、事件：MATE60的国产化引起市场发酵。据彭博社报道，中芯国际用交旧的ASML 光刻机，采用多重光刻法，通过4次或更多次光刻

光刻胶是精细化工行业技术壁垒最高的材料，被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。光刻胶在芯片制造材料成本中的占比高达12%，是继大硅片、电子气体之后第三大IC制造材料，是半导体产业关键材料。得益于技术节点不断进步以及存储器层数的增加，半导体光刻胶需求持续增长。2022年全球半导体光刻胶市场规模近23亿

光刻胶是精细化工行业技术壁垒最高的材料，被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。光刻胶在芯片制造材料成本中的占比高达12%，是继大硅片、电子气体之后第三大IC制造材料，是半导体产业关键材料。得益于技术节点不断进步以及存储器层数的增加，半导体光刻胶需求持续增长。2022年全球半导体光刻胶市场规模近23亿

一文看懂国产芯片崛起必经之路---国产光学系统！（附股）25,198人浏览2023-08-31 09:23风口情报：光刻机是半导体设备中最昂贵、最关键、国产化率最低的环节，全球光刻机市场被荷兰 ASML、日本佳能、尼康三大巨头垄断。光学系统是光刻机的核心，光刻机制程越小，对光学系统的精度要

彭博社委托半导体行业观察机构TechInsights对华为新机进行了拆解，并在星期一（9月4日）报道称，拆解显示，Mate 60 Pro所使用的新型麒麟9000s芯片，由中国顶级芯片制造商中芯国际制造，并采用了中芯国际最先进的7纳米芯片技术。 众所周知，由于丑国制裁的原因，中芯国际只有28

你要明白一件特别清晰的事情就是，游资其实就是个钱稍微多点的积极参与市场的活跃的大散户而已，是人类，只要是人类，你作为小散户，迷你小韭菜，你也是一个人类，人类和人类是一个种族。你通过努力学习研究是可能能成为优秀的大散户群体中的一员。 量化则不然，我就说一个点就是a股百分之90以上都是中小个人投资者，a

这几天说量化在风口浪尖不为过，公社里两篇相关文章我觉得写的很好，起码从不同视角揭开了很多量化不为人知的一面。没看过的可以去看看，链接： 1.量化：披着科技外衣追涨杀跌，成建制的消灭市场有生力量 2.限制量化交易应从制度性不公入手 网上不同观点碰撞，有支持量化的，有讨伐量化的。你要问我的观点，我总的观

 光刻机是国内最受关注的半导体设备，也是严重被卡脖子的设备，它的主要作用就是进行光刻制造。以2022年为例，全球前道光刻设备市场规模约为190亿美元，其市场份额在晶圆生产设备中占比为20%，仅次于刻蚀设备。 晶圆生产设备市场份额占比如需了解半导体行业各流程工艺的介绍，欢迎点开主页

一步一图，了解光刻机的工作原理icguide​华中科技大学 软件工程硕士57 人赞同了该文章光刻机是半导体工业中的关键设备，主要用于制造芯片中的微小结构。它通过将掩模上的图形投影到硅片上，并使用紫外线照射硅片表面，使其形成微小的结构。ASML光刻机本文将从光刻机的构成、工作原理、曝光过程和曝光技术等

外交部回应美国调查华为最新手机芯片：制裁打压只会增强中国的决心和能力财联社电，今天的外交部例行记者会上，有记者提问称，美国政府已经开始对用于华为最新手机的芯片展开调查。对此，中国外交部发言人毛宁表示，我们一贯反对将经贸科技问题政治化，反对滥用和泛化国家安全概念。美国滥用国家力量，无理打压中国企业，违

    中航证券：光刻机深度：筚路蓝缕，寻光刻星火光刻为IC制造核心工艺，光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本，在瑞利公式：CD=1/的指导下，人类在缩短波长，增大数值孔径NA，降低工艺因子1三个方面展开探索，目前已实现13.5nm

能否介绍一下光照环节的具体技术细节?光照是光刻中的一个环节。这里面涉及一个金属化的过程，也就是离子注入，一般会在硅基底层上布置金属层，然后在金属层上附上光刻胶。利用紫外线或是极紫光穿过掩模版照在光刻胶上。接下来用溶解剂清洗掉残留物，就保留Wafer上的线路。光刻是一个复杂反复的过程，之后还有很多步骤

【华泰通信王兴团队】 【核心观点】产业趋势扑面而来，重点布局卫星互联网核心标的 【板块思考】 1、产业的趋势已经确证，不用怀疑：火箭侧，卫星制造侧，下游应用侧都得到了反复确认，火箭运力大幅度提升，成本快速下降。 2、美国的科技革命也是一手Chatgpt，一手Starlink，无论是中美脱钩还是新科

光刻机路线 1、上微（中科院）走ASML路线，全程规避美规。采用1X千瓦/50Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶。 2、广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器这个路线，截止2022年他们做出了40Khz的液态锡滴发生器并且打靶产生了

光刻机路线 1、上微（中科院）走ASML路线，全程规避美规。采用1X千瓦/50Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶。 2、广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器这个路线，截止2022年他们做出了40Khz的液态锡滴发生器并且打靶产生了

中芯国际通过多重光刻技术，实现了MATE60的完全国产化，是国产半导体行业的里程碑；这意味着在美国制裁高端光刻机的背景下，通过低端光刻机+多重光刻技术可以弯道实现7nm芯片1、事件：MATE60的国产化引起市场发酵。据彭博社报道，中芯国际用交旧的ASML 光刻机，采用多重光刻法，通过4次或更多次光刻

光刻胶是精细化工行业技术壁垒最高的材料，被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。光刻胶在芯片制造材料成本中的占比高达12%，是继大硅片、电子气体之后第三大IC制造材料，是半导体产业关键材料。得益于技术节点不断进步以及存储器层数的增加，半导体光刻胶需求持续增长。2022年全球半导体光刻胶市场规模近23亿

光刻胶是精细化工行业技术壁垒最高的材料，被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。光刻胶在芯片制造材料成本中的占比高达12%，是继大硅片、电子气体之后第三大IC制造材料，是半导体产业关键材料。得益于技术节点不断进步以及存储器层数的增加，半导体光刻胶需求持续增长。2022年全球半导体光刻胶市场规模近23亿

一文看懂国产芯片崛起必经之路---国产光学系统！（附股）25,198人浏览2023-08-31 09:23风口情报：光刻机是半导体设备中最昂贵、最关键、国产化率最低的环节，全球光刻机市场被荷兰 ASML、日本佳能、尼康三大巨头垄断。光学系统是光刻机的核心，光刻机制程越小，对光学系统的精度要

彭博社委托半导体行业观察机构TechInsights对华为新机进行了拆解，并在星期一（9月4日）报道称，拆解显示，Mate 60 Pro所使用的新型麒麟9000s芯片，由中国顶级芯片制造商中芯国际制造，并采用了中芯国际最先进的7纳米芯片技术。 众所周知，由于丑国制裁的原因，中芯国际只有28

你要明白一件特别清晰的事情就是，游资其实就是个钱稍微多点的积极参与市场的活跃的大散户而已，是人类，只要是人类，你作为小散户，迷你小韭菜，你也是一个人类，人类和人类是一个种族。你通过努力学习研究是可能能成为优秀的大散户群体中的一员。 量化则不然，我就说一个点就是a股百分之90以上都是中小个人投资者，a

这几天说量化在风口浪尖不为过，公社里两篇相关文章我觉得写的很好，起码从不同视角揭开了很多量化不为人知的一面。没看过的可以去看看，链接： 1.量化：披着科技外衣追涨杀跌，成建制的消灭市场有生力量 2.限制量化交易应从制度性不公入手 网上不同观点碰撞，有支持量化的，有讨伐量化的。你要问我的观点，我总的观

 光刻机是国内最受关注的半导体设备，也是严重被卡脖子的设备，它的主要作用就是进行光刻制造。以2022年为例，全球前道光刻设备市场规模约为190亿美元，其市场份额在晶圆生产设备中占比为20%，仅次于刻蚀设备。 晶圆生产设备市场份额占比如需了解半导体行业各流程工艺的介绍，欢迎点开主页

一步一图，了解光刻机的工作原理icguide​华中科技大学 软件工程硕士57 人赞同了该文章光刻机是半导体工业中的关键设备，主要用于制造芯片中的微小结构。它通过将掩模上的图形投影到硅片上，并使用紫外线照射硅片表面，使其形成微小的结构。ASML光刻机本文将从光刻机的构成、工作原理、曝光过程和曝光技术等

外交部回应美国调查华为最新手机芯片：制裁打压只会增强中国的决心和能力财联社电，今天的外交部例行记者会上，有记者提问称，美国政府已经开始对用于华为最新手机的芯片展开调查。对此，中国外交部发言人毛宁表示，我们一贯反对将经贸科技问题政治化，反对滥用和泛化国家安全概念。美国滥用国家力量，无理打压中国企业，违

    中航证券：光刻机深度：筚路蓝缕，寻光刻星火光刻为IC制造核心工艺，光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本，在瑞利公式：CD=1/的指导下，人类在缩短波长，增大数值孔径NA，降低工艺因子1三个方面展开探索，目前已实现13.5nm

能否介绍一下光照环节的具体技术细节?光照是光刻中的一个环节。这里面涉及一个金属化的过程，也就是离子注入，一般会在硅基底层上布置金属层，然后在金属层上附上光刻胶。利用紫外线或是极紫光穿过掩模版照在光刻胶上。接下来用溶解剂清洗掉残留物，就保留Wafer上的线路。光刻是一个复杂反复的过程，之后还有很多步骤

【华泰通信王兴团队】 【核心观点】产业趋势扑面而来，重点布局卫星互联网核心标的 【板块思考】 1、产业的趋势已经确证，不用怀疑：火箭侧，卫星制造侧，下游应用侧都得到了反复确认，火箭运力大幅度提升，成本快速下降。 2、美国的科技革命也是一手Chatgpt，一手Starlink，无论是中美脱钩还是新科

光刻机路线 1、上微（中科院）走ASML路线，全程规避美规。采用1X千瓦/50Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶。 2、广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器这个路线，截止2022年他们做出了40Khz的液态锡滴发生器并且打靶产生了

光刻机路线 1、上微（中科院）走ASML路线，全程规避美规。采用1X千瓦/50Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶。 2、广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器这个路线，截止2022年他们做出了40Khz的液态锡滴发生器并且打靶产生了

中芯国际通过多重光刻技术，实现了MATE60的完全国产化，是国产半导体行业的里程碑；这意味着在美国制裁高端光刻机的背景下，通过低端光刻机+多重光刻技术可以弯道实现7nm芯片1、事件：MATE60的国产化引起市场发酵。据彭博社报道，中芯国际用交旧的ASML 光刻机，采用多重光刻法，通过4次或更多次光刻

光刻胶是精细化工行业技术壁垒最高的材料，被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。光刻胶在芯片制造材料成本中的占比高达12%，是继大硅片、电子气体之后第三大IC制造材料，是半导体产业关键材料。得益于技术节点不断进步以及存储器层数的增加，半导体光刻胶需求持续增长。2022年全球半导体光刻胶市场规模近23亿

光刻胶是精细化工行业技术壁垒最高的材料，被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。光刻胶在芯片制造材料成本中的占比高达12%，是继大硅片、电子气体之后第三大IC制造材料，是半导体产业关键材料。得益于技术节点不断进步以及存储器层数的增加，半导体光刻胶需求持续增长。2022年全球半导体光刻胶市场规模近23亿

一文看懂国产芯片崛起必经之路---国产光学系统！（附股）25,198人浏览2023-08-31 09:23风口情报：光刻机是半导体设备中最昂贵、最关键、国产化率最低的环节，全球光刻机市场被荷兰 ASML、日本佳能、尼康三大巨头垄断。光学系统是光刻机的核心，光刻机制程越小，对光学系统的精度要

彭博社委托半导体行业观察机构TechInsights对华为新机进行了拆解，并在星期一（9月4日）报道称，拆解显示，Mate 60 Pro所使用的新型麒麟9000s芯片，由中国顶级芯片制造商中芯国际制造，并采用了中芯国际最先进的7纳米芯片技术。 众所周知，由于丑国制裁的原因，中芯国际只有28

你要明白一件特别清晰的事情就是，游资其实就是个钱稍微多点的积极参与市场的活跃的大散户而已，是人类，只要是人类，你作为小散户，迷你小韭菜，你也是一个人类，人类和人类是一个种族。你通过努力学习研究是可能能成为优秀的大散户群体中的一员。 量化则不然，我就说一个点就是a股百分之90以上都是中小个人投资者，a

这几天说量化在风口浪尖不为过，公社里两篇相关文章我觉得写的很好，起码从不同视角揭开了很多量化不为人知的一面。没看过的可以去看看，链接： 1.量化：披着科技外衣追涨杀跌，成建制的消灭市场有生力量 2.限制量化交易应从制度性不公入手 网上不同观点碰撞，有支持量化的，有讨伐量化的。你要问我的观点，我总的观

 光刻机是国内最受关注的半导体设备，也是严重被卡脖子的设备，它的主要作用就是进行光刻制造。以2022年为例，全球前道光刻设备市场规模约为190亿美元，其市场份额在晶圆生产设备中占比为20%，仅次于刻蚀设备。 晶圆生产设备市场份额占比如需了解半导体行业各流程工艺的介绍，欢迎点开主页

一步一图，了解光刻机的工作原理icguide​华中科技大学 软件工程硕士57 人赞同了该文章光刻机是半导体工业中的关键设备，主要用于制造芯片中的微小结构。它通过将掩模上的图形投影到硅片上，并使用紫外线照射硅片表面，使其形成微小的结构。ASML光刻机本文将从光刻机的构成、工作原理、曝光过程和曝光技术等

外交部回应美国调查华为最新手机芯片：制裁打压只会增强中国的决心和能力财联社电，今天的外交部例行记者会上，有记者提问称，美国政府已经开始对用于华为最新手机的芯片展开调查。对此，中国外交部发言人毛宁表示，我们一贯反对将经贸科技问题政治化，反对滥用和泛化国家安全概念。美国滥用国家力量，无理打压中国企业，违

    中航证券：光刻机深度：筚路蓝缕，寻光刻星火光刻为IC制造核心工艺，光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本，在瑞利公式：CD=1/的指导下，人类在缩短波长，增大数值孔径NA，降低工艺因子1三个方面展开探索，目前已实现13.5nm

能否介绍一下光照环节的具体技术细节?光照是光刻中的一个环节。这里面涉及一个金属化的过程，也就是离子注入，一般会在硅基底层上布置金属层，然后在金属层上附上光刻胶。利用紫外线或是极紫光穿过掩模版照在光刻胶上。接下来用溶解剂清洗掉残留物，就保留Wafer上的线路。光刻是一个复杂反复的过程，之后还有很多步骤

【华泰通信王兴团队】 【核心观点】产业趋势扑面而来，重点布局卫星互联网核心标的 【板块思考】 1、产业的趋势已经确证，不用怀疑：火箭侧，卫星制造侧，下游应用侧都得到了反复确认，火箭运力大幅度提升，成本快速下降。 2、美国的科技革命也是一手Chatgpt，一手Starlink，无论是中美脱钩还是新科

光刻机路线 1、上微（中科院）走ASML路线，全程规避美规。采用1X千瓦/50Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶。 2、广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器这个路线，截止2022年他们做出了40Khz的液态锡滴发生器并且打靶产生了

光刻机路线 1、上微（中科院）走ASML路线，全程规避美规。采用1X千瓦/50Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶。 2、广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器这个路线，截止2022年他们做出了40Khz的液态锡滴发生器并且打靶产生了

中芯国际通过多重光刻技术，实现了MATE60的完全国产化，是国产半导体行业的里程碑；这意味着在美国制裁高端光刻机的背景下，通过低端光刻机+多重光刻技术可以弯道实现7nm芯片1、事件：MATE60的国产化引起市场发酵。据彭博社报道，中芯国际用交旧的ASML 光刻机，采用多重光刻法，通过4次或更多次光刻

光刻胶是精细化工行业技术壁垒最高的材料，被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。光刻胶在芯片制造材料成本中的占比高达12%，是继大硅片、电子气体之后第三大IC制造材料，是半导体产业关键材料。得益于技术节点不断进步以及存储器层数的增加，半导体光刻胶需求持续增长。2022年全球半导体光刻胶市场规模近23亿

光刻胶是精细化工行业技术壁垒最高的材料，被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。光刻胶在芯片制造材料成本中的占比高达12%，是继大硅片、电子气体之后第三大IC制造材料，是半导体产业关键材料。得益于技术节点不断进步以及存储器层数的增加，半导体光刻胶需求持续增长。2022年全球半导体光刻胶市场规模近23亿

一文看懂国产芯片崛起必经之路---国产光学系统！（附股）25,198人浏览2023-08-31 09:23风口情报：光刻机是半导体设备中最昂贵、最关键、国产化率最低的环节，全球光刻机市场被荷兰 ASML、日本佳能、尼康三大巨头垄断。光学系统是光刻机的核心，光刻机制程越小，对光学系统的精度要

彭博社委托半导体行业观察机构TechInsights对华为新机进行了拆解，并在星期一（9月4日）报道称，拆解显示，Mate 60 Pro所使用的新型麒麟9000s芯片，由中国顶级芯片制造商中芯国际制造，并采用了中芯国际最先进的7纳米芯片技术。 众所周知，由于丑国制裁的原因，中芯国际只有28

你要明白一件特别清晰的事情就是，游资其实就是个钱稍微多点的积极参与市场的活跃的大散户而已，是人类，只要是人类，你作为小散户，迷你小韭菜，你也是一个人类，人类和人类是一个种族。你通过努力学习研究是可能能成为优秀的大散户群体中的一员。 量化则不然，我就说一个点就是a股百分之90以上都是中小个人投资者，a

这几天说量化在风口浪尖不为过，公社里两篇相关文章我觉得写的很好，起码从不同视角揭开了很多量化不为人知的一面。没看过的可以去看看，链接： 1.量化：披着科技外衣追涨杀跌，成建制的消灭市场有生力量 2.限制量化交易应从制度性不公入手 网上不同观点碰撞，有支持量化的，有讨伐量化的。你要问我的观点，我总的观