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无名小韭06670108
2022-01-19 05:49:34
谢谢
@九九鸟:
半导体工业沿摩尔定律向前发展,光刻技术是基石。摩尔定律的延续离不开光刻技术的进步,目前全球最为顶尖且实现量产的光刻工艺为台积电的5nm制程工艺(2020年),3nm制程工艺预计将于2022年正式投产。而大陆方面,最为领先的晶圆代工企业中芯国际已于2021年实现制程工艺的突破,但仍与世界顶尖水平存在着
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