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迈为股份关于异质结超薄片技术的展望
金融民工1990
长线持有
2023-07-27 22:04:36

一、公司目前的生产能力

1.出货量:

今年预计扩产40-50GW,预计交付40GW+,下半年每月至少出货6条线,明年预计出货80-100GW;

2.无铟TCO:

目前量产迁移率接近20%,实验室已出现35%迁移率;铟用量已降至13.5mg/w,预计2023年底12mg/w,2024年底10mg/w;铟和非铟1:1基本持平,预计2024H1做到1:2,2024年底做到1:3;

3.钢网:

目前已达25μm线宽,下一步20μm线宽。

4.0BB:

无膜0BB今年可量产,200-215℃即可完成焊接。

 

二、公司目前的经营情况

作为设备商,今年开始,迈为回归研发方向,逐渐回归主业。后续在明年或后年,迈为在主业上面会有一些划时代的产品出来。2023年预计扩产40-50GW,迈为2023年交付应该超过40GW,一部分是去年留下的订单,一部分是今年上半年的订单,大概今年接近交付70条线。下半年每月至少出货6条线,明年预计80-100GW。

 

三、公司今年取得的技术性突破成就

电池片2023年年底应该有人干100μm,2024年年中应该有人干90μm,因为0BB的推出使得90μm有了可能性。

1)非烟技术

迈为是两年前干非铟的事情,两年前迈为邀请2个大学和3个研究所,经过1年半的赛跑,最终有2个研究所和1个大学给出了很好的方案。最开始无铟的TCO不到10%的迁移率,1年多的努力,量产迁移率接近20%,目前实验室出现35%。非铟量产最后得干过40%,不干到40%或45%,很难说效率不下降。我们最初通过设备降铟,这是我们的老本行。当时行业中铟用量20mg/w,差不多5分钱/w。从20mg/w降到16mg/w,现在降到了13.5mg/w,今年年底预计12mg/w,24年底10mg/w。10mg/w是有希望的。从20mg降到10mg/w,到2024年是用了4年。为了干这件事报废了几百套载板,当然载板只是一个方向,还有其他方向,每个方向都研究的很细才能做到10mg/w。

2)设备回收

回收的事情,刚开始200/300MW的设备没有人干回收,现在GW级的情况下一天就有载板需要清洗,每个载板回收很多铟下来。最后要做叠层TCO,降到10mg/w,然后回收,其实TCO用量大概四点几毫克每瓦。现在我们推出1:1的铟和非铟叠层基本持平,效率基本不降,但这取决于细栅密栅。我们钢网已达25μm线宽,以后要做到20μm线宽。非铟的迁移率只有20%,导电性差,只能用更多的细栅弥补。之前省银浆,就是减栅线根数,减到五六十根,这是基于前一段时间TCO迁移性是过剩的,导电性是有余量的,减根数对减浆料是立竿见影的,因为浆料提供3个电阻:本身电阻、跟TCO接触的电阻、TCO的电阻。但如果做无铟的TCO就根数太少了,加根数的情况下浆料就上去了,所以必须把每根做细。所以现在钢网变得异常重要,钢网已经做了3年,但是之前一直不被待见,之前大家省浆料的方法就是减根数。因为之前TCO的迁移率达70/80%,比较高的迁移率,导电性很好,浆料用工少。现在又要回到无铟叠层时代,回到把线做细,下一步要做20μm线宽。

3TCO技术

TCO这块,配合钢网多细栅,但是银浆耗量不增加的情况下,我们现在能做到铟和非铟1:1基本持平,下一步目标是做1:2。1:2会降0.15%的效率,做到持平至少在0.03%以内。2024年上半年大概做到35%的迁移率的时候就可以做出1:2,2023年年底要做到1:3,这需要材料和装备的进步。低温下非铟迁移率做到40%多是有希望的,就可以做到1:3,用量就是1mg/w,500GW的HJT要用差不多500-600吨的铟,这是市场可以供给的。三千块到四千块之间的时候,市场可以多出一吨的铟。500吨的铟不到3000元就可以平衡掉,铟的价格高的时候,大家回收积极性高,提炼欲望越来越多。只有提炼成本在80美金以下才可以回本。现在1mg用量,就算原来的1500涨到3000,成本上涨很小,用20mg的话,涨1500就要涨3分/w。钢网和TCO叠层,完全的无铟化希望不大,效率要掉0.8%,至少3-4年时间才能实现。

4)无膜OBB技术

我们的0BB有所不同,有膜的0BB迈为两年多前就量产了,只是不在国内。不在国内推,一个原因是承压的焊接是有风险的,拉力差的时候组件是有风险的,做0BB的时候不拉了是不可以的。焊接不好的时候,TC是过不了的,最后这根线会把硅片锯掉。0BB还是采用焊接的,只有焊完确保拉力可靠,才能保证后面出货的几个GW都是可靠的。0BB跟组件不匹配,所以公司不推。还有就是国内喜欢换材料,哪家材料便宜好就换哪家,焊带换、浆料也换,海外客户两年都不换材料。所以这两年迈为就在解决怎么用0BB把它焊上,提供的拉力要比不焊接的要强;第二个好处是不需要膜了,整个组件只需要10g胶水;第三个好处是可以用高温焊带。大硅片的热斑160-170℃,低温承接的焊接温度要到145℃,稍微有点热斑就熔了。一般认为焊带温度至少160或者170℃,抗热斑能力才比较好。只要用焊接,就会被烫伤,但0BB对温度控制较好,均匀性较好,200-215℃就可以完成焊接。第四个好处是可以干银包铜,银包铜焊接最好不超过235℃。今年可以将无膜0BB量产。关注无铅,无铅的焊接温度一般就会往上走。我们铜电镀和非铟这方面可以做到匹配,无铟TCO经得起铜电镀的酸、碱腐蚀,2023年下半年将有一条线出来。铜电镀有希望提升0.6%的效率但是成本很高,估计8分/w。特别是未来非铟需要更多细栅的情况下,铜电镀是很有诱惑力的。但良率是一个很大的问题,4-5个大工序,17-18道小工序,0.6%的绝对效率,至少可以增加2%多,差不多15-20W,从我们角度来说,这是一个差距化产品,所以BC没必要做。叠层实验线今会年铺出来,我们会做不一样的东西。TCO没太有人做,因为该研究的已经研究完了,大家都没有兴趣做,只能公司出钱找人合作去研发;但是钙钛矿太多人做,国内外估计300多实验室在做。迈为不要做1/300,要做乘数,做别人做不了的事情。在异质结方向,迈为会回归本源。


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