佳能（ Can on）近日宣布，将首次供应 半导体 的下一代制造设备——“纳米压印”光刻机（NIL），这批设备将交付给美国“得克萨斯州 电子 研究所”。据了解，该设备在半导体制程中用于在晶圆上绘制电路图。目前，标准方法是使用强光来绘制电路。佳能的设备采用的方法是一种像盖章一样的，将纳米级别的图案刻在掩膜上，然后将图案转印的技术。

目前，先进制程使用的是极紫外（EUV）光刻技术，ASML是全球唯一可供应极紫外光刻设备的制造商。佳能推出的纳米压印光刻设备经过改良后甚至能生产2纳米级半导体，希望挑战ASML在光刻设备市场的地位。与使用光的传统方法相比，纳米压印的优势在于能够抑制耗电量和成本。佳能光学设备事业本部副事业本部长岩本和德表示：“我们的目标是在三到五年内每年销售十几台”。

以下是一些从事纳米压印光刻机相关业务的上市公司：

1. 苏大维格（300331.sz）：公司是国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，自主开发、制造光刻设备，包括纳米压印设备等。其纳米压印光刻技术在光学材料领域有一定应用，并且公司曾表示关注到该技术在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，在这方面也有尝试和布局，但在一些关键参数上与行业龙头存在差距。

2. 汇创达（300909.sz）：公司立足微纳米压印技术，专注于研发透光率高、重量轻、所需能耗小的导光产品，背光模组是其基于自身导光膜产品结合微纳米热压印工艺的延伸产品，也是主营产品之一。

3. 利和兴（301013.sz）：该公司将纳米压印技术作业方式由单机手工变为自动化，在纳米压印技术的应用和探索方面有一定成果。

4. 美迪凯（688079.sh）：这是一家从事光学光电子、半导体光学、半导体微纳电路的研发、制造和销售的高新技术企业。公司控股子公司美迪凯（浙江）智能光电科技有限公司在纳米印制程领域具有自主知识产权和核心技术。