高端ArF光刻胶目前还未有国内公司量产，国内ArF光刻胶市场需求达2.5亿 美元，亟需国产替代。公司于客户50nm闪存技术平台验证通过，证明代表 性工艺节点突破，成功实现从零到一的突破。公司量产计划于2019年底在 宁波建成光刻胶生产线，并于2021年底实现年产25吨（干式5吨/浸没式20 吨）产能规模，性能满足90nm-14nm IC制造要求。

公司收购飞源气体后与公司现有磷烷、砷烷电子特气整合优化，成为 业务新增长点。 公司收购完成国内前三含氟电子特气供应商飞源气体，布局含氟特气市场。 目前NF3市场需求处于紧平衡，飞源NF3气体相比国外SK、KDK等厂商具有 原料和运输成本优势。同时，磷烷与砷烷属于高纯特气中技术门槛和开发 难度最高的两种，公司经多年攻关后已开始量产6N级以上高纯气体，占据 国内75%市场份额，并进入世界一流公司供应名单。 

 公司三大业务板块协同效应明显，整合后公司边际效应有望改善。 公司原有MO源业务与ALD前驱体整合为先进前驱体材料板块，与电子特 气、光刻胶形成公司三大板块。三板块同时需求高纯度、低杂质、稳定的 质量管控以及相近的客户群体，公司整合后有望取长补短，补齐各业务板 块不足，改善边际效应，追赶国际领先同行。