蓝英装备
胡乐乐
2024-10-15 19:19:14 上海市
【国产光刻胶通过量产验证】《科创板日报》15日讯，据“中国光谷”今日消息，光谷企业近日在半导体专用光刻胶领域实现重大突破：武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的国外同系列产品UV1610，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶产品，通过半导体工艺量产验证。
T150 A光刻胶实现配方全自主设计，对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。据介绍，相较于国外同系列产品UV1610，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀。
通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。
光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。
光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。
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