而随后有投资者问，请问公司在光刻胶和光刻机方面有哪些技术和产品?

国林科技5月30日在互动平台表示，公司电子级超纯臭氧气体发生器可产生高浓度、大流量、高压力的超洁净臭氧，臭氧在电子工业领域可被广泛用于形成CVD和ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用。此前，国林科技还表示，公司半导体清洗专用臭氧设备首台套已于2022年下半年交付给客户，2023年以来陆续在半导体、面板、科研等行业领域出货验证。

2021年半导体清洗用臭氧设备国产化率10%左右，假设核心零部件国产化率快速提升，至2025年国产化率达48%，预计2025年中国大陆半导体用臭氧发生器(清洗+薄膜沉积)国产化空间3.9亿美元，较传统臭氧下游市场空间弹性超100%。根据国林科技2023年9月18日互动易回复，子公司国林半导体专用臭氧清洗设备已送样客户包括部分头部企业、面板厂及科研院所，已具备量产的基本条件，期待产品验证完成实现国产突破。

子公司国林半导体臭氧设备产品从2022年下半年开始进行市场导入，2023年以来陆续在半导体、面板、科研等行业领域出货验证，该产品用于化学气相沉积（CVD）、原子层薄膜沉积（ALD）、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等工艺中。国林科技2024年一季报显示，公司主营收入9669.34万元，同比上升46.23%；