必创科技：公司于8月29日晚的投资者关系活动记录表显示，公司目前主要产品为半导体光电检测，晶圆检测、光刻工艺、薄膜沉积的量测和检测。公司目前针对第三代半导体SiC、GaN、以及新型光伏材料及钙钛矿等领域相关产品进行了产品的应用和拓展线，相关产品单价可达几百万量级；

半导体光电量测及检测业务是必创科技在原有光电效应、荧光及拉曼产品线的基础上，针对新型材料机理与器件表征研究、晶圆检测、光刻工艺、薄膜沉积的量测和检测需求，进行了产品和应用的拓展；按照不同的业务规模划分，公司业务以及产品技术应用在半导体行业和光伏行业的比重各达50%，公司业务横跨半导体与光伏两大热门赛道

逻辑一：跨界收购半导体刻蚀环节核心资产

9月2日晚间，必创科技发布公告称，公司拟分为两步取得北京创世威纳科技有限公司控制权

第一步，必创科技拟于2024年内通过增资取得创世威纳约10%股权，该次交易完成后创世威纳将成为必创科技参股公司

第二步，必创科技拟在创世威纳完成2024年业绩承诺的基础上，于2025年内通过发行股份及支付现金方式进一步收购创世威纳约55%股权，该次交易完成后北京创世威纳将成为必创科技控股子公司。

资料显示，创世威纳成立于2008年，拥有15年微米纳米镀膜与刻蚀经验，其推出的系列镀膜机、刻蚀机及其他真空设备可以满足市面上多种膜系、刻蚀形貌的工艺要求。创世威纳的高精尖客户占比较高、应用经验丰富，根据科研和工业的不同需求，提供标准化程度高、集成度高、设计轻巧、满足多样化研究的科研设备，以及生产效率高、稳定性高、材料利用率高的生产型设备，目前公司各类刻蚀设备已经在半导体、微电子、光电器件、新材料、航空航天、通讯、核工业等行业获得了成熟应用

公司此举意在加强公司在半导体领域深入布局

PS: 行业背景：在半导体制造工艺中，薄膜沉积、光刻、刻蚀为半导体前道工艺制造流程中的三大关键环节；在半导体刻蚀环节中，国内企业全球市场占有率较低，国产替代空间巨大；在国内一众玩家梯队里，中微公司领军国内介质刻蚀，北方华创则领军国内硅刻蚀，而北京创世威纳独专利，创紧跟行业前沿技术步伐，不断革新公司技术，开发出了性能优良的真空镀膜设备、磁控溅射镀膜机、IBE离子東刻蚀机、ICP感应耦合等离子刻蚀机、RIE反应离子刻蚀机、PECVD化学气相沉积设备、热阻电子束蒸发镀膜机等，公司各个产品在行业竞争中达到领先地位

此次公司拟收购的北京创世威纳有限公司，位于国内半导体刻蚀环节行业前五；

刻蚀设备占半导体前道设备价值量22%，但国产化率却不足10%，国产替代空间巨大

逻辑二：公司旗下子公司双利合谱为国内低空机载高光谱成像领域龙头企业

据必创科技2024年4月24日互动易显示：公司及公司子公司在低空影像光谱感知方面和数字化水环境监测方面布局多年，以自主创新的高光谱相机、数据解析及应用软件为核心技术，已经推出了空天地一体化的水环境监测、农业作物生长监测、林业草原遥感等成熟应用；低空光谱技术为低空感知的核心环节

逻辑三：必创科技旗下子公司对标德国PI，产品可用于光刻机制造超精度定位

德国PI公司 （Physik Instrumente GmbH） 本身不生产光刻机整机 ，但其产品在光刻机相关领域有应用 。该公司的纳米定位系统可用于光刻机中投影物镜的高精度微调、掩模台的定位以及光刻机的主动减振等，从而保证光刻机的成像质量、分辨率与稳定性 。

必创科技：公司投资入股的多场科技对标德国PI。多场科技专注于全环境压电超精密运动控制技术以及产品的开发与推广，特别是在极端环境下的纳米级运动控制方面具有国际领先水平 。

其产品已服务于国内外百余所知名高校及研究机构，面向半导体、精密光学、精密仪器、航空航天、工业自动化等领域，为客户提供超精密运动领域一体化集成式解决方案 。是国际上为数不多能提供全套极端环境下纳米级运动控制解决方案的团队 。