1、公司深耕PVD真空镀膜材料(靶材)领域20余年:公司02年成立开始,首先涉足光学镀膜材料,2005年进入汽车玻璃用镀膜材料,2010年进入溅射靶材领域,2013年导入苹果供应链,2015年自主研发的高纯钼靶导入一线面板厂,2017年ITO靶材量产线投产,2020年半导体芯片用靶材开始投产。2、公司核心技术优势在于PVD技术的经验积累:对 PVD镀膜设备端、工艺端、材料端的复合理解力与综合应用能力是当前阿石创的核心竞争力,也是阿石创未来拓宽PVD应用场景、建设 PVD应用新项目的核心支持力。3、光学镀膜业务助力公司提升PVD设备工艺经验的积累:国内半导体、面板产业内的PVD设备,以采购美国、日本、德国品牌为主。半导体及面板领域的PVD设备极其封闭,靶材厂商乃至客户都无法接触到PVD设备。光学镀膜领域的PVD设备,虽然也是以日本设备为主,但光学领域的PVD设备对于国内客户十分开放,靶材厂商需要参与PVD设备的调试,从而保障产线的稳定运行。二十余年的光学镀膜经验,帮助公司积累丰富的PVD工艺经验。4、PET铜箔量产的难点在于PVD环节:目前量产难点集中在 PVD 镀膜环节的经济指标,主要是速度、连续性、宕机时间三方面,这三个指标是目前影响量产化的主要影响因素,对成本影响较大,如果成本太高,难以满足下游电池厂商降本要求。未来如果速度、连续性和宕机时间都能得到保证,成本降下来是可以的。当前布局PET业务的企业有十余家,但是没有一家能够实现量产线具备经济性的运行。5、与日本爱发科合作,自主设计的PVD工艺路线有望实现量产:日本爱发科,全球领先的PVD设备厂商,核心部件真空系统、镀膜系统、测量系统等均为自制。国内PVD设备厂商目前还是需要对外采购核心零部件。公司与爱发科合作,共同开发针对PET铜箔量产的PVD设备技术方案,采用日本爱发科设备内部独特设计,尤其是对于内部腔体的控制。在PET上镀铜,温度很容易损伤PET,因此温度控制十分关键。公司采用爱发科PVD设备的中鼓设计,解决镀膜过程中出现的基膜变形、鼓包断裂等问题。此方案为公司首创独家,有望解决当期产业量产难题。6、公司有望成为首家量产PET铜箔的厂商:公司定制首条产线并采购日本核心零部件,均有望在年底到厂,届时公司对于PVD设备进行升级改造,有望实现具备经济效益地稳定量产。预期产线速度达到8平米/S,单位成本达到4元以下。23年Q1公司有望正式实现PET铜箔量产。7、投资建议:除PET铜箔业务,公司也为光伏异质结靶材核心标的。根据过去两年市场表现,异质结ITO靶材业务支撑公司35亿市值为坚固的底部。22年11月之后,市场才为阿石创注入PET铜箔预期。目前公司位置极佳,向下空间仅有10%,而PET铜箔业务落地可先望百亿市值(150-200%空间),赔率极高(20),值得重点关注!!!
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