纳米压印技术和现在市场上的光刻技术有所不同

基于光学的曝光机，也就是我们常说的光刻机，从Reticle（掩膜版）到晶圆是4：1的缩小比例，而纳米压印技术下的Reticle选用特殊加工方法，从Reticle到晶圆是等比例的。

这意味着只要Reticle能做到5nm，就能压印出5nm的东西。

纳米压印可潜在替代EUV、DUV

当DUV（技术）再往下走，日本厂商并没有选择EUV，而是采用了‘纳米压印’技术，来开发新一代的设备。

日本佳能纳米技术声称：它已经用紫外压印技术实现了15纳米芯片的量产，并且准备实验5纳米芯片的生产工艺。这套紫外压印工艺，设备比EUV光刻机便宜，运行比EUV光刻机省电，产品精度还不次于EUV光刻。

纳米压印技术实际应用

1、目前，存储厂商开始计划使用纳米压印技术来制造存储芯片，如凯侠、东芝、SK海力士和三星等。

2、在CPU制造中，纳米压印技术能够实现高分辨率的图案转移，制造出具有复杂结构的芯片。这将有助于提高CPU的性能和功耗效率，满足市场需求。

3、在模拟电路、数字电路、功率器件等领域，纳米压印技术能够提高生产效率和降低成本，有助于推动这些领域的发展。

纳米压印相关概念：

苏大维格：公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口；同时，向上海微电子提供光刻机用的定位光栅产品。

已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局；

利和兴：公司二代全自动纳米压印设备的研发项目处于研发测试阶段，尚待后续验证；

美迪凯：用纳米压印开发了光学模组技术；

腾景科技：公司在进行纳米压印衍射波导片产品的研发。