妮子981
2023-10-31 04:10:43
不错，转发一下！
@无名挖掘研究：
10月27日，上海微电子申请光刻投影物镜的发明专利进入公示期。该专利旨在“降低光刻投影物镜的设计成本及制造周期，同时提高光刻投影物镜的像质校正能力，进而提高曝光成像质量，实现更小的曝光分辨率和CDU，相应的，本发明还提供了一种光刻机。 北京时间10月27日上午，彭博社文章《US
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