异动
登录注册
无名小韭98140524
2023-11-17 08:52:07
转发了
@加油奥利给: 核心观点光刻为C制造核心工艺,光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本,在瑞利公式:=1/的指导下,人类在缩短波长,增大数值孔径NA,降低工艺因子1三个方面展开探索,目前已实现13.5nm波长与达物理极限的1,正在向0.55 NAEUV迈步。为了实现进一步制程微缩,
55 赞同-89 评论
声明:文章观点来自网友,仅为作者个人研究意见,不代表韭研公社观点及立场,站内所有文章均不构成投资建议,请投资者注意风险,独立审慎决策。
工分
0.01
转发
收藏
投诉
复制链接
分享到微信
有用 0
打赏作者
无用
真知无价,用钱说话
0个人打赏
同时转发
暂无数据