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无名小韭81090312
2024-08-02 19:52:56
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@吸吸欧气:
最细催化:【极紫外光刻新技术问世能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本】财联社8月2日电,据日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)官网最新报告,该校设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源,其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,从
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