chiplet的几大流程包括,先进封装凸块(bumping)、布线、硅通孔TSV、flip-out扇出等等。(https://mp.weixin.qq.com/s/FfEaI3hl4HHkQaHOFTDJiA)
chiplet的几大难点包括,bumping凸块,封装基材(散热),测试等等。其中,Cu Trace贯穿其中,也就是铜的连接。详见公众号台积电的3d fabric PPT介绍:
至于为什么选择铜,中科院先进院解释如下(https://mp.weixin.qq.com/s/ox0xWrFGf02X_t1M9sPY2Q):
其中,bumping点间互连、芯片叠层互连、芯片贴装互连、芯片与基板间互连,都需要非常好的互连解决方案。目前的解决方法是“纳米铜低温烧结”。 有研粉材688456做的最好。
有研粉材的纳米铜材料,也是科技部的战略性国际科技创新合作重点专项。
金属粉末的壁垒,已经有了悦安新材的资本市场反馈验证了。有研粉材作为纳米铜粉、锡粉龙头,后续3d增材布局也十分充分。
烧结决定壁垒,烧结决定性能、活性。 有研粉材,基于自身烧结领域的龙头地位,目前市值只有32亿,非常低估。