关注原因:短线,大基金二期入股光刻胶公司。中芯国际光刻胶负责人杨晓松与方正电子首席交火,杨称ArF没一家能看的,各个都不敢来见我。
1、驱动因素:27号南大光电公告称,子公司宁波南大光电拟通过增资扩股方式引入大基金二期,带动光刻胶板块异动。周末方正电子首席大吹光刻胶材料,与中芯国际光刻胶负责人杨晓松交火,杨称:ArF没一家能看的,各个都不敢来见我。因此本文梳理相关公司为主。
2、光刻胶行业现状。
(1)国内替代空间大。光刻胶主要应用于PCB、面板、半导体等领域,技术壁垒高,价值含量高,高端光刻胶市场基本被日本企业所把持,使用量最高的KrF光刻胶和ArF光刻胶国产化率低于5%,进口替代空间大。
(2)需求端高企,供给端高度集中。2019年我国光刻胶市场约70亿元(重点),CAGR达11%,高于全球平均5%的增速。国产光刻胶主要集中在PCB领域,占据国产光刻胶生产规模的95%,高技术壁垒的面板和半导体光刻胶基本依赖进口。目前全球光刻胶市场由日美企业占据,日本合成橡胶、东京应化、美国新杜邦、日本信越和富士电子占据了87%的市场份额。
(3)地震加剧供需不平衡。今年2月13日,日本东北发生7.3级地震,由于日本大厂占据全球80%光刻胶市场,地震加剧了光刻胶供应紧缺。海关人员表示,近期很多半导体厂商每次只能采购到10-20公斤的光刻胶,而以往每次采购量通常在100公斤以上。
3、半导体光刻胶根据曝光光源波长不同来分类,分别是紫外全谱(300~450nm)、G 线(436nm)、I 线(365nm)、深紫外(DUV,包括248nm和193nm)和极紫外(EUV),波长越短,加工分辨率越佳。
目前半导体用光刻胶,主要分为5个种类:g线光刻胶,i线光刻胶,KrF光刻胶,ArF光刻胶和EUV光刻胶。因为当前主流的制程工艺是用于8寸和12寸晶圆片,所以,ArF光刻胶是市场需求的主流,占比约42%。而KrF则多用于8寸晶圆片,占比约22%。
4、光刻胶炒作逻辑。从整个半导体产业链看,目前中国最大的瓶颈是所有领域都是瓶颈,光刻胶只是所有瓶颈中最不起眼的一个,现在日本也不对中国禁运光刻胶。市场小没业绩、需求大但不是必需品。当然为了未来完整的产业链知识产权,研发还是必不可少的,但炒作终归是炒作,市场需求总值就那么大,总不能炒到天上去。
相关公司:
综上,ArF确实没一家能看的,市场规模也较小,炒作成分偏大。
(部分资料来自研迅社、深交所、上交所)