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无名小韭15651113
2023-11-17 08:52:56
转发一篇光刻机
@加油奥利给:
核心观点光刻为C制造核心工艺,光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本,在瑞利公式:=1/的指导下,人类在缩短波长,增大数值孔径NA,降低工艺因子1三个方面展开探索,目前已实现13.5nm波长与达物理极限的1,正在向0.55 NAEUV迈步。为了实现进一步制程微缩,
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