2)进展:研究了美国、日本及荷兰格局。部分国内企业已经逐步取得阶段性成果,并且订单快速增长
3)环节:光刻、薄膜沉积及刻蚀设备是最为核心的三大主要设备,合计占设备销售额约62%。其他主要包括清洗、量测、CMP、涂胶显影、离子注入、去胶、热处理、封装、测试等。
4)制程:整体水平达到28nm制程,并在14nm和7nm制程实现了部分设备的突破
5)已上市标的:北方华创(平台型设备企业,产品涉及刻蚀、薄膜沉积、氧化扩散、退火、清洗等)、中微公司(刻蚀设备快速增长)、芯源微(涂胶显影国内龙头,前道track产品收入及订单快速放量)、至纯科技(布局湿法设备,提供28nm节点的全部湿法工艺设备)、万业企业(收购凯世通布局离子注入机);
6)仍IPO流程标的:盛美上海(清洗设备国内供应商,布局电镀设备及先进封装湿法设备等)、屹唐股份(去胶设备全球龙头)、华海清科(CMP国内主要供应商)、拓荆科技(PECVD、SACVD、ALD等薄膜沉积设备国产化主要供应商)等。
来源:申万宏源