必创科技于9/12号宣布了一项重组计划，该计划涉及与北京创世威纳科技有限公司（以下简称“创世威纳”）及其实际控制人周正化签署《股权投资意向协议》。根据该协议，必创科技计划通过两个步骤获得创世威纳的控制权：
第一步：必创科技计划在2024年内通过增资方式获得创世威纳约10%的股权。这次交易完成后，创世威纳将成为必创科技的参股公司。
第二步：在创世威纳完成2024年业绩承诺的基础上，必创科技计划在2025年内通过发行股份及支付现金的方式进一步收购创世威纳约55%的股权。这次交易完成后，创世威纳将成为必创科技的控股子公司。
这次股权投资旨在丰富必创科技在科研及先进制造领域的产品和服务，并加强在半导体、光电器件、航空航天等领域的布局。通过这次重组，必创科技有望提升其在相关领域的市场竞争力和综合竞争力。

让我们来看看这家公司是干什么的

北京创世威纳科技有限公司是一家专业从事微细加工设备和半导体工艺设备研发与销售的高新技术企业。公司的产品主要应用于微电子、光电子、通讯、微机械、新材料、新能源等领域，包括磁控溅射镀膜设备、离子束溅射镀膜设备、电子束蒸发镀膜设备、多弧离子镀膜设备、等离子体化学气相淀积设备（PECVD）、干法刻蚀设备（RIE，ICP，IBE）、匀胶机、烘胶机、去胶机、非标真空设备等。

创世威纳在行业中的地位较为领先，其产品和技术得到了市场的广泛认可。公司拥有多年的行业经验，通过了ISO质量管理体系认证，获批为高新技术企业，并拥有多项发明专利和实用新型专利。公司紧跟世界技术发展的步伐，不断进行技术创新和产品升级，以满足不断变化的市场需求。

在半导体设备行业中，创世威纳专注于提供技术先进、性能优良的设备，其产品和服务在国内外市场上享有良好的声誉。随着半导体行业的快速发展，创世威纳有望继续在行业中保持其领先地位，并进一步扩大其市场份额。

创世威纳属于什么行业的企业？在行业低位如何？
北京创世威纳科技有限公司专注于微米纳米镀膜与刻蚀技术，拥有15年的经验。公司提供一系列镀膜机、刻蚀机及其他真空设备，能够满足多种膜系和刻蚀形貌的工艺要求。创世威纳的产品广泛应用于微电子、光电子、通讯、微机械、新材料、新能源等领域。

创世威纳的突出成果和产品包括但不限于：

磁控溅射镀膜机：如DISC-SP-3200型，用于高效、多功能的镀膜工艺。
感应耦合等离子体刻蚀机：如DISC-ICP-601型，耐氟基或更弱气体腐蚀，适用于科研与教学。
反应离子刻蚀机：如DISC-RIE-601型，刻蚀过程缓慢且易于控制，耐氟基或更弱腐蚀性气体。
离子束刻蚀机：如DISC-IBE-150C/200C型，具有负角度刻蚀以降低反污染，提供热态和冷态中和系统。
超高真空排气台：用于创造超高真空环境，适用于高端科研和工业应用。
其他产品可以通过这个链接进去官网

公司还提供定制服务，以满足特定应用需求，并提供全面的技术支持和售后服务。创世威纳致力于技术创新和产品优化，追求卓越品质和服务，以满足客户需求。通过持续的研发投入，公司已经在新材料与特种材料表征领域积累了丰富的经验，并逐步布局针对第三代半导体、Micro-LED发光器件、钙钛矿光伏材料等领域的量测和检测。
公司以真空技术、半导体设备技术、自动控制技术、半导体工艺技术见长，设备中融入的诸多国际先进技术已成功国产化多年，结合自主创新技术，使公司设备在国内处于领先地位。

创世威纳的产品定位于高新技术发展的基础产业，并广泛应用于微电子、光电子、通讯、微机械、新材料、新能源等领域。公司的主要产品包括磁控溅射镀膜设备、离子束溅射镀膜设备、电子束蒸发镀膜设备、多弧离子镀膜设备、等离子体化学气相淀积设备（PECVD）、干法刻蚀设备（RIE，ICP，IBE）、匀胶机、烘胶机、去胶机、非标真空设备等。这些产品主要用于科研机构、大专院校、相关生产企业和公司进行科学研究、教学、产品开发、批量生产。

公司采用国际上先进的“设备与工艺相结合”模式进行研发、生产与销售，紧跟世界先进技术，引领真空等离子体行业风向标。

另一方面，黎巴嫩事件已经造成全球层面对西方电子产品的不信任，对国产消费电子是一个机遇，对国产的检测仪器也是一个机遇。信任危机已经全面爆发，检测才是最后的手段