IT之家 3 月 7 日消息,香港城市大学(城大)电机工程学系王骋教授团队与香港中文大学研究人员合作,开发出了全球领先的微波光子芯片,可运用光学进行超快模拟电子信号处理及运算。
官方表示,团队的研究成果不仅开辟了新的研究领域,即铌酸锂微波光子学,使微波光子芯片更小巧、具高讯号保真度与低延迟性能,也是芯片级模拟电子处理与运算引擎的突破。相关研究成果已经以《集成铌酸锂微波光子处理引擎》为题发表在《自然》上(IT之家附 DOI:s41586-024-07078-9)。
据介绍,这种芯片比传统电子处理器的速度快 1000 倍,耗能更低,应用范围广泛,涵盖 5/6G 无线通讯系统、高解析度雷达系统、人工智能、计算机视觉以及图像和视频处理。
王教授表示:我们的团队开发了集成微波光子系统,将超快电光转换模块与低损耗、多功能讯号处理模块同时结合在一块芯片上,这是前所未有的成果。
论文的共同第一作者冯寒珂表示:这种芯片可进行高速模拟计算,具有 67 吉赫兹的超宽处理频宽和极高的计算精确度。
微波光子芯片概念个股:
光库科技、苏大维格、天通股份等,欢迎补充
1、光库科技
2、苏大维格 叠加光刻机
近日,苏大维格自主研发制造的大型直写光刻设备顺利交付,该设备主要用于光子芯片、光通信和光芯片等光电子领域相关材料的光刻制造,为客户搭建先进光电子器件制造的高端装备平台。
随着各行业智能化进程的提速与数据流量的爆发,光电子领域的芯片、器件及相关模块向高速率、集成化、大容量、低成本方向演进,为公司高性能光刻设备的产业化拓展带来巨大机遇。
苏大维格自主研发的大型直写光刻设备具备综合性能优势:
3D矢量设计数据向微结构形貌转化先进算法与软件处理
海量数据处理与传输/快速光刻
大面积衬底实时三维导航自聚焦功能
三维微结构形貌曝光邻近效应补偿
支持大面积光刻厚胶板制备…
能为各类新颖光电子材料与相关功能器件的生产制造和产业创新提供关键技术支撑和高端制造平台。
目前苏大维格已签订了数个大型光刻设备合同,主要用于光子芯片、光芯片、光掩模、票据防伪、泛半导体等领域相关材料和器件的光刻加工制作,公司将根据相关协议陆续交付。
苏大维格将持续拓展微纳光学技术/产品在国家票据和证件防伪材料、电子纸和反射式液晶前光材料、AR/MR和AR-HUD衍射光学材料、芯片光刻机定位光栅尺材料,以及光刻设备在光伏铜电镀图形化设备、高端掩模、光子芯片、光芯片等具有更高附加值和市场空间领域的商业化应用和产业化投资,竭力为客户提供先进的光学材料、光刻设备和解决方案,满足客户对微纳光刻制造的更高需求,助力其突破技术瓶颈,为产业合作创造新机遇。