多重曝光技术是指在现有的光刻机精度下，依次使用不同的掩膜版，分别进行两次及以上的曝光，将一次曝光留下的介质层作为二次曝光的部分遮挡层。在此过程中，由于多重曝光增加了多道薄膜沉积工序，需要薄膜技术具有接近 100%的保型性、薄膜厚度控制精准，因此 ALD 技术被迅速推广应用。

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公司回答表示，尊敬的投资者您好。多重曝光技术（Multi Patterning）指通过重复的曝光和刻蚀工艺，追求更高图形密度和更小工艺节点的技术，可以使用在多个技术节点。多重曝光技术中，通过利用ALD技术沉积厚度均匀的薄膜（spacer材料）的自对准双重成像（SADP)技术对套刻误差的容忍度更高。目前ALD 技术可在多重曝光中推广应用。