半导体领域

公司用于半导体行业的高浓度臭氧发生器和高浓度臭氧水设备技术取得突破，高浓度臭氧发生技术、液位控制技术、高浓度臭氧水的制取技术和臭氧水溶浓度检测技术组装的用于半导体行业的高浓度臭氧水设备经过测试，臭氧发生器出气浓度可达200-300mg/L，臭氧水浓度可达80-150ppm，并能实现臭氧水不同浓度的精准控制，满足半导体行业应用需求。目前该类产品首台套订单设备已于2022年下半年交付客户，目前尚处于产品验证阶段，产品开发计划符合既定预期，降低成本的材料研究和技术迭代也在同步进行。半导体行业导入及产品验证门槛较高，公司将致力于做好产品的基础上，尽快完成产品导入和市场验证过程。