日日升
2024-03-01 08:56:43
光刻机，现代工业集大成者，亟待国产破局
@加油奥利给：
作者：付强，徐勇，徐碧云光刻是半导体核心工艺，开发难度大，性能指标要求高。光刻机是半导体制造的核心设备，其性能直接决定了芯片的工艺水平，开发难度大，价值量高，市场规模可观，目前市场主流光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类；分辨率、套刻精度、产率是光刻机的核心指标，其中，分辨
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