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牛比分子
2022-08-06 17:12:12
@鑫鑫飞鸿:
“抛光”解牛,赢在细微。 何为抛光? 抛光(CMP)即化学机械抛光,是通过化学试剂的化学腐蚀和纳米磨粒的机械研磨技术结合,实现晶圆表面微米/纳米级材料的去除,从而达到晶圆表面高度(纳米级)平坦化的技术。 CMP 抛光的工作原理是在一定压力及抛光液的存在下,被
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