JasonCraig
2024-06-10 23:44:42
国产替代加速：光刻胶产业及个股梳理
@伏白的交易笔记：
一. 光刻工艺概览光刻是半导体制造核心工艺，光刻技术是指利用光化学反应原理和化学物理刻蚀方法，将图形传递到介质层上，形成功能图形的工艺。通过光刻工艺，将印制于掩膜板上的电路图复制到衬底晶圆上，为下一步刻蚀做好准备。通过光刻和刻蚀工艺将电路图转移到晶圆上后，再进行离子注入、退火、扩散、气相沉积等流程，
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