👉盛美上海于11月18日成功推出涂胶显影Track设备,将于几周后向中国国内客户交付首台ArF工艺涂胶显影Track设备,并将于2023年推出i-line型号设备。此外,公司已开始着手研发KrF型号设备。
👉盛美上海涂胶显影Track设备是一款应用于300毫米晶圆工艺的设备,共有4个适用于12英寸晶圆的装载口,8个涂胶腔体、8个显影腔体。涂胶显影Track设备将支持包括i-line、KrF和ArF系统在内的各种光刻工艺。
👉Gartner数据显示,2022年全球Track市场规模将达37亿美元,鉴于全球逻辑及存储器制造商正在寻求第二供应商,公司相信这款全新产品会有巨大潜力。
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