四重爆光技术（SA­QP）对相关材料、设备的需求也大幅提升，包括光刻胶、掩膜版。终端芯片的制程越高，对半导体国产替代全产业链的需求越大。

掩膜版：

冠石科技：公司光掩膜版制造项目已于 1 月 27 日顺利封顶。目前公司正在按照既定计划，稳步推进各项工作，，7月中旬，首台电子束掩膜版光刻机顺利交付，公司本次交付的电子束掩膜版光刻机设备是光掩膜版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。

路维光电：公司立足于平板显示掩膜版和半导体掩膜版两大核心产品线,逐步形成“以屏带芯”的业务发展格局，公司已掌握的半导体掩膜版制造技术可以覆盖第三代半导体相关产品。

清溢光电：公司生产的半导体集成电路凸块(IC Bu­m­p­i­ng)掩膜版,集成电路代工(IC Fo­u­n­d­ry)掩膜版等,主要应用于半导体芯片行业,主要客户有:士兰微,中芯国际等。

光刻胶：

华懋科技：通过收购徐州康博，迈入了光刻胶行业第一梯队。徐州康博拥有强大的生产能力和先进的技术，目前正在研发和配方定型的ArF光刻胶、KrF光刻胶和I线光刻胶分别有30款、34款和16款产品，使其成为国内产品最齐全、技术水平最高的光刻胶材料研发制造基地之一，华懋科技是华为光刻胶业务的主要供应商之一，为其芯片制造提供关键材料。

宝丽迪：公司成功研发红色纳米色浆,可应用于光刻胶领域。目前公司已经完成部分光刻胶色浆样品验证,并且正在进行多批次、重复性、稳定性。

南大光电：2019年年报显示公司目前已安装完成一条193nm光刻胶生产线，公司具备ArF光刻胶产品检测能力，公司ArF光刻胶有少量销售。

彤程新材：ArF光刻胶已实现批量出货。这意味着，公司在光刻胶产品线上又取得了新突破。近期，部分ArF/Ar­Fi光刻胶产品通过国内芯片厂验证，取得了规模量产订单，已开始批量供货。同时随着新产品开发及客户验证的不断深入，预计多支ArF/Ar­Fi产品将在今年下半年逐步实现量产导入。

强力新材：公司主营业务产品仍以光刻胶专用化学品为主,分为光刻胶用光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂等)和光刻胶树脂两大系列。

上海新阳：控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司进行193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目。

国林科技：臭氧应用包括:化学气相沉积(CVD)、原子层薄膜沉积(ALD)、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除、表面处理和氧化物生长等工艺制程中。子公司国林半导体产品从2022年下半年开始进行市场导入,2023年以来陆续在半导体、面板、科研等行业领域出货验证,未来公司的工作重点将围绕产品市场推广及产品迭代展开。

七彩化学：公司控股子公司绍兴上虞新利化工有限公司“2000吨/年光敏性中间体及600吨/年高性能光刻胶系列产品技改项目”目前正在安装设备阶段。

容大感光：公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品,主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。

晶瑞电材：公司是一家专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售的高新技术企业,主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。公司共有5台光刻机，分别用于紫外宽谱、g线、i线、KrF和ArF产品的研发以及量产，ArF高端光刻胶研发工作在有序开展中，部分样品已开展客户送样验证工作。

双乐股份：公司用于面板光刻胶的颜料的产线已经投资建设完成,目前产品尚在测试和改进中。