1、目前的细栅线宽42μm,攻克铜电镀的技术难点后,比如把线宽做到20μm,大概有0.5pct的提效。线宽做到10μm,还能有0.4-0.5pct的提效,也就是26.3-26.4pct。目前电镀铜的核心工艺为图形化,其中光刻正在验证中,迈为股份、苏大维格布局类光刻技术,两家关系目前比较紧密,核心的看点是后面苏大维格会和迈为成立合作公司一起开发电镀铜技术,有了迈为的扶持,苏大维格的电镀铜技术发展肯定会顺风顺水。2、苏大维格加大的元宇宙领域布局,已攻克了"纳米波导光场镜片 "批量化关键技术,而波导镜片设计制造是AR头盔的核心技术之一。苏大维格主要做纳米压印的设备,跟高伟合作主要做苹果光波导镜片研发。3、光刻机技术领先:近期传闻荷兰光刻机巨头阿斯麦将对国内光刻机供应限制,苏大维格在光刻领域有着很深的积累,一旦阿斯麦对国内光刻机限制出口,苏大维格的光刻技术可以转移至HW等产线; 4、三季度明星公募睿远基金大手笔买入,目前占流通股7%,值得看好。
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