翻翻书睡睡觉
2023-10-29 20:04:31
10月27日，上海微电子申请光刻投影物镜的发明专利进入公示期。该专利旨在“降低光刻投影物镜的设计成本及制造周期，同时提高光刻投影物镜的像质校正能力，进而提高曝光成像质量，实现更小的曝光分辨率和CDU，相应的，本发明还提供了一种光刻机。
北京时间10月27日上午，彭博社文章《US Can’t Halt SMIC, Huawei’s Tech Advances, Chip Guru Says
》提到，浸没式光刻之父、前台积电副总林本坚在近期接受采访时表示，通过利用已经在使用的ASML设备，中芯国际应该能推进到下一代5nm工艺，除了努力尝试达到5nm以外，中国可能还会试验用新材料或先进封装来制造更强大的半导体。
在关系缓和之际，大力发展光刻机，发展芯片本身也是我们的重要筹码，谈判中的重要一环，10月27日下午消息，广州鼓励发展光刻胶，光芯片等高端半导体制造材料。
十月的尾巴出来这么一条消息，承上启下华为线，国产自强。不是考虑力度多少，而是这是一种态度，一个方向，未来相信会有更多方向指引，国产替代说到底，离不开光刻机和光刻胶。
逻辑梳理不易，欢迎讨论，欢迎转发。
（来自韭研公社APP）
北京时间10月27日上午，彭博社文章《US Can’t Halt SMIC, Huawei’s Tech Advances, Chip Guru Says
》提到，浸没式光刻之父、前台积电副总林本坚在近期接受采访时表示，通过利用已经在使用的ASML设备，中芯国际应该能推进到下一代5nm工艺，除了努力尝试达到5nm以外，中国可能还会试验用新材料或先进封装来制造更强大的半导体。
在关系缓和之际，大力发展光刻机，发展芯片本身也是我们的重要筹码，谈判中的重要一环，10月27日下午消息，广州鼓励发展光刻胶，光芯片等高端半导体制造材料。
十月的尾巴出来这么一条消息，承上启下华为线，国产自强。不是考虑力度多少，而是这是一种态度，一个方向，未来相信会有更多方向指引，国产替代说到底，离不开光刻机和光刻胶。
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@无名挖掘研究：
10月27日，上海微电子申请光刻投影物镜的发明专利进入公示期。该专利旨在“降低光刻投影物镜的设计成本及制造周期，同时提高光刻投影物镜的像质校正能力，进而提高曝光成像质量，实现更小的曝光分辨率和CDU，相应的，本发明还提供了一种光刻机。 北京时间10月27日上午，彭博社文章《US
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