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翻翻书睡睡觉
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  • 翻翻书睡睡觉
    2023-10-29 20:04:31
    10月27日,上海微电子申请光刻投影物镜的发明专利进入公示期。该专利旨在“降低光刻投影物镜的设计成本及制造周期,同时提高光刻投影物镜的像质校正能力,进而提高曝光成像质量,实现更小的曝光分辨率和CDU,相应的,本发明还提供了一种光刻机。


    北京时间10月27日上午,彭博社文章《US Can’t Halt SMIC, Huawei’s Tech Advances, Chip Guru Says
    》提到,浸没式光刻之父、前台积电副总林本坚在近期接受采访时表示,通过利用已经在使用的ASML设备,中芯国际应该能推进到下一代5nm工艺,除了努力尝试达到5nm以外,中国可能还会试验用新材料或先进封装来制造更强大的半导体。

    在关系缓和之际,大力发展光刻机,发展芯片本身也是我们的重要筹码,谈判中的重要一环,10月27日下午消息,广州鼓励发展光刻胶,光芯片等高端半导体制造材料。

    十月的尾巴出来这么一条消息,承上启下华为线,国产自强。不是考虑力度多少,而是这是一种态度,一个方向,未来相信会有更多方向指引,国产替代说到底,离不开光刻机和光刻胶。

    逻辑梳理不易,欢迎讨论,欢迎转发。



    (来自韭研公社APP)
    @无名挖掘研究:11月重磅突破题材,光刻机(胶)一图汇总。
    10月27日,上海微电子申请光刻投影物镜的发明专利进入公示期。该专利旨在“降低光刻投影物镜的设计成本及制造周期,同时提高光刻投影物镜的像质校正能力,进而提高曝光成像质量,实现更小的曝光分辨率和CDU,相应的,本发明还提供了一种光刻机。 北京时间10月27日上午,彭博社文章《US 
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