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国产光刻机必不可少的耗材
龙场小牧童
高抛低吸的游资
2024-07-19 14:22:45 浙江省
作者利益披露：原创，不作为证券推荐或投资建议，截至发文时，作者不持有相关标的。
声明：文章观点来自网友，仅为作者个人研究意见，不代表韭研公社观点及立场，站内所有文章均不构成投资建议，请投资者注意风险，独立审慎决策。
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真知无价，用钱说话
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  • 无名小韭49910911
    只看TA
    07-19 21:51 []
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  • 猎手1989
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    07-20 08:01 广东省
    臭氧在光刻机的使用过程中主要涉及到光刻胶的去除。在半导体工艺中，光刻胶作为感光材料，其主要作用是将掩模版上的图形转移到晶圆片等衬底上  。在光刻工艺完成后，通常需要去除光刻胶，以便进行下一步的工艺操作。
    传统的光刻胶去除方法包括湿法去胶和干法去胶。湿法去胶操作简单便捷，但可能不适用于经过干法刻蚀或离子注入处理后变性的光刻胶。干法去胶则可以有效去除这类变性的光刻胶  。此外，还有使用氧等离子去胶的方法，该方法利用氧等离子体与有机聚合物发生氧化反应，将光刻胶氧化成水汽和二氧化碳等排除腔室，达到去除光刻胶的目的  。
    特别地，有研究开发了一种新型的光刻胶剥离技术，称为蒸汽臭氧剥离（VOS），使用臭氧和汽化水进行光刻胶的去除。VOS工艺不仅环保，而且比传统的臭氧水浸泡更有效，因为它可以同时使用高浓度臭氧气体和高温水，并且利用高反应性OH*自由基物质，以更高的速率剥离光刻胶  。VOS技术能够去除离子注入光刻胶和蚀刻光刻胶，且在电气可靠性测试中已证明其性能与过氧化硫混合物（SPM）相当  。
    综上所述，臭氧在光刻机的使用中主要作为去除光刻胶的一种手段，通过氧化反应将光刻胶转化为易去除的物质，新型的蒸汽臭氧剥离技术提供了一种更高效、环保的去胶解决方案。
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    于2024-07-20 08:39:27更新
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  • 加油奥利给
    下海干活的韭菜种子
    只看TA
    07-19 21:37 四川省
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  • 无名小韭65670418
    只看TA
    07-19 21:07 广东省
    不错
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  • Alex123
    只看TA
    07-25 23:58 浙江省
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  • 宁静致远0307
    自学成才的韭菜种子
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    07-22 13:22 江苏省
    谢谢分享
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  • 颜红光
    航行五百年的老司机
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    07-22 13:17 江苏省
    谢谢分享
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  • 一路赢
    只看TA
    07-21 23:21 江苏省
    周五刚出减持啊
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  • 无名小韭98111102
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    07-21 23:18 广东省
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  • 花无间
    只看TA
    07-21 22:40 浙江省
    这种公司就算了吧，上次抄光刻机的时候也拿出来说过，还不是没起来，一家有前景的公司，大股东是不会减持的。你这是旧事新提。
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