国林科技核心逻辑:
1) 紧急且确定的国产替代需求;
2) 国产替代后的高消耗预期(大概3年需要更换一次设备);
事件背景:
半导体清洗设备的核心设备“高浓度臭氧发生器”,其市场主要由美国MKS及德国安索罗斯等国外厂商占据;据行业内消息,目前美国mks确定断供,已经发函给国内半导体企业停供设备了;国产替代的需求紧急且确定;
国林科技是以臭氧技术为核心的拓展产业上下游的企业;近年来,依托几十年的臭氧相关技术积累进入半导体和光刻胶清洗设备领域,产品主要是两大类,臭氧水机和薄膜沉积设备两种。 臭氧气体发生器主要用于干法清洗,高浓度臭氧水则在硅片—晶圆—封测都需要应用。
竞争优势:
国林科技的竞争优势,一方面是依托于长期的臭氧相关技术积累,上下游垂直一体化拓展性强;另一方面是针对具体的高浓度臭氧发生器,国林科技的优势在于制备臭氧浓度国内最高,300mg/L;替代mks快速且稳定,在电源、性能、大小和电路方面都能快速的替换芯片企业现有生产线上的mks产品;自研陶瓷材料成本低廉性能优异,有自己的陶瓷半导体技术公司;
目前国内头部芯片企业都有拿公司产品做验证及导入,比较急切与国林科技合作。
预期空间:
预期市场: 保守估计,国林科技实现30%替代,即预期市场空间为5.4亿人民左右;
预期利润: 高浓度臭氧发生器单台价值量在60-80万左右,成本在20万左右;之前中芯国际全部购买美国日本的设备,大概3年需要更换一次设备。这部分业务30%的毛利率,实现30%替代,2亿左右的利润,这一块中期给30倍的PE,大约增加60亿。