国林科技核心逻辑：

1） 紧急且确定的国产替代需求；
2） 国产替代后的高消耗预期（大概3年需要更换一次设备）；
事件背景：
半导体清洗设备的核心设备“高浓度臭氧发生器”，其市场主要由美国MKS及德国安索罗斯等国外厂商占据；据行业内消息，目前美国mks确定断供，已经发函给国内半导体企业停供设备了；国产替代的需求紧急且确定；
国林科技是以臭氧技术为核心的拓展产业上下游的企业；近年来，依托几十年的臭氧相关技术积累进入半导体和光刻胶清洗设备领域，产品主要是两大类，臭氧水机和薄膜沉积设备两种。 臭氧气体发生器主要用于干法清洗，高浓度臭氧水则在硅片—晶圆—封测都需要应用。
竞争优势：
国林科技的竞争优势，一方面是依托于长期的臭氧相关技术积累，上下游垂直一体化拓展性强；另一方面是针对具体的高浓度臭氧发生器，国林科技的优势在于制备臭氧浓度国内最高，300mg/L；替代mks快速且稳定，在电源、性能、大小和电路方面都能快速的替换芯片企业现有生产线上的mks产品；自研陶瓷材料成本低廉性能优异，有自己的陶瓷半导体技术公司；
目前国内头部芯片企业都有拿公司产品做验证及导入，比较急切与国林科技合作。
预期空间：
预期市场： 保守估计，国林科技实现30%替代，即预期市场空间为5.4亿人民左右；
预期利润： 高浓度臭氧发生器单台价值量在60-80万左右，成本在20万左右；之前中芯国际全部购买美国日本的设备，大概3年需要更换一次设备。这部分业务30%的毛利率，实现30%替代，2亿左右的利润，这一块中期给30倍的PE，大约增加60亿。