光芯片点评：国产替代趋势渐进，新方案有望弯道超车光芯片光模块公司今日普涨，源杰科技上涨20%、光库科技涨11%、长光华芯和仕佳光子也涨8%，光模块相关的中际旭创、天孚通信、新易盛、华工科技、博创科技也大涨。我们重申此前9月12日的观点如下：1）光芯片作为光模块的核心部件之一，在本次深圳光博会大放异彩

高能同步辐射光源（HEPS）是中科院、北京市共建怀柔科学城的核心装置，由国家发展改革委批复立项，中科院高能所承担建设，为“十三五”国家重大科技基础设施。设施建成后，将成为世界上发射度最低、亮度最高的第四代同步辐射光源之一，最“亮”的光将帮助人类更细致观察微观物质的细节，为国家解决在资源、能源、环境、

网传清华大学弯道超车光刻机新方案，冷静！科学有故事2023年09月18日 18:35:2749人参与17评论最近这一周，有一个科技新闻传的很厉害，说清华大学弄出了一种新的产生极深紫外光源的原理，可以突破光刻机的卡脖子技术难题，甚至还有很多人传说我国已经在雄安开始建设光刻工厂了，还有图有真相，说得有鼻

摩尔定律失效在即，硅光技术凭借其在高传输速率、高能效比、超低延迟等方面的突出优势，正成为半导体领域竞争的另一条赛道。全球最大芯片制造商台积电正在大举押注新兴半导体领域——硅光芯片。据媒体报道，台积电已组建了一支约200人的研发团队，瞄准明年即将到来的硅光子超高速芯片商机；该公司不仅正在积极推进硅光子

买不到好价格了 不要追

天风证券-公用事业行业周报：容量电价该如何推行？-230913　　本周专题：　　近年来伴随新能源装机规模的持续提升和电力系统改革的不断推进，火电角色也将逐渐从发电电源过渡到调节电源，因此亟需建立合理的容量补偿机制，以保障火电机组收益，提供有效的发电投资信号。本周，我们将对市场所关心的容量电价相关问题

华为、算力、服务器、智能驾驶大火，别追，来学习下减肥药

省流总结：光刻机里发生了？1.光掩模、透镜组和硅片工件台会精密对准和调平2.光源放光3.移动工件台◼ 光刻为IC制造核心工艺，光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本，在瑞利公式：𝐶𝐷 = 𝑘1𝜆/𝑁𝐴 的指导下，人类在缩短波长𝜆，增大数值孔径NA，降

根据 SEMI 数据，2021 年光刻胶在晶圆制造材料市场中占比 6.1%，而光刻胶基本被日美垄断，国产化率不足 10%。复盘国内光刻胶上市公司股价走势，半导体景气周期与自主可控两大因素对股价影响大。 ➢Fab 厂积极扩产&制程升级重塑光刻胶市场天花板，预计光刻胶市场国内增速高于全

光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺，如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类繁多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等。在整个半导体芯片制造过程中，光刻是最复杂工艺，光刻工艺

目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，那有没有其他的路可走？实际上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻技术。纳米压印光刻技术是什么？1995年，华裔科学家周郁（Stephen Chou）教授首次提出纳

自从国产替代概念兴起，很少关注半导体行业的人都对光刻机有所耳闻。目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，除了全力研发光刻机，国产有没有其它的路可以走？事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻（Nano

特斯拉Optimus将搭载约40个执行器，“电机+减速器”的集成有望成为人形机器人大关节的主要动力组合，减速器需求空间将被打开，而指关节部分因体积、重量等边界条件限制，可能采用更加轻量化的技术路径。作为机器人的核心零部件，减速器、伺服系统和控制器的国产化率目前仅为36.53%、24.50%和31.2

作者：Ryan、图图、小鲨鱼Intro捷克作家卡雷尔的科幻剧《罗素姆的万能机器人》中‘机器人’一词由此诞生，它在捷克语中的意思是“劳动”。然而，随着时代的变迁，这个词的含义已经不再局限于最初的定义，如今通常指的是能够自主执行任务，或根据预设的编程和人工智能学习适应的自动化机器。 科技的飞跃

专家介绍： 数据要素这一块可能是 2019 年才提出来的。但这块相关的内容其实可以追溯到十几年前， 因为最早的时候我国是建立了电子政务外网，其实已经是在 2010 年左右的时候，已经开始 逐步建设这种各地的政府的数据共享，然后后续有一些数据开放的平台，已经把一部分的政 务数据进行了一个归集。这个时候

光芯片点评：国产替代趋势渐进，新方案有望弯道超车光芯片光模块公司今日普涨，源杰科技上涨20%、光库科技涨11%、长光华芯和仕佳光子也涨8%，光模块相关的中际旭创、天孚通信、新易盛、华工科技、博创科技也大涨。我们重申此前9月12日的观点如下：1）光芯片作为光模块的核心部件之一，在本次深圳光博会大放异彩

高能同步辐射光源（HEPS）是中科院、北京市共建怀柔科学城的核心装置，由国家发展改革委批复立项，中科院高能所承担建设，为“十三五”国家重大科技基础设施。设施建成后，将成为世界上发射度最低、亮度最高的第四代同步辐射光源之一，最“亮”的光将帮助人类更细致观察微观物质的细节，为国家解决在资源、能源、环境、

网传清华大学弯道超车光刻机新方案，冷静！科学有故事2023年09月18日 18:35:2749人参与17评论最近这一周，有一个科技新闻传的很厉害，说清华大学弄出了一种新的产生极深紫外光源的原理，可以突破光刻机的卡脖子技术难题，甚至还有很多人传说我国已经在雄安开始建设光刻工厂了，还有图有真相，说得有鼻

摩尔定律失效在即，硅光技术凭借其在高传输速率、高能效比、超低延迟等方面的突出优势，正成为半导体领域竞争的另一条赛道。全球最大芯片制造商台积电正在大举押注新兴半导体领域——硅光芯片。据媒体报道，台积电已组建了一支约200人的研发团队，瞄准明年即将到来的硅光子超高速芯片商机；该公司不仅正在积极推进硅光子

买不到好价格了 不要追

天风证券-公用事业行业周报：容量电价该如何推行？-230913　　本周专题：　　近年来伴随新能源装机规模的持续提升和电力系统改革的不断推进，火电角色也将逐渐从发电电源过渡到调节电源，因此亟需建立合理的容量补偿机制，以保障火电机组收益，提供有效的发电投资信号。本周，我们将对市场所关心的容量电价相关问题

华为、算力、服务器、智能驾驶大火，别追，来学习下减肥药

省流总结：光刻机里发生了？1.光掩模、透镜组和硅片工件台会精密对准和调平2.光源放光3.移动工件台◼ 光刻为IC制造核心工艺，光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本，在瑞利公式：𝐶𝐷 = 𝑘1𝜆/𝑁𝐴 的指导下，人类在缩短波长𝜆，增大数值孔径NA，降

根据 SEMI 数据，2021 年光刻胶在晶圆制造材料市场中占比 6.1%，而光刻胶基本被日美垄断，国产化率不足 10%。复盘国内光刻胶上市公司股价走势，半导体景气周期与自主可控两大因素对股价影响大。 ➢Fab 厂积极扩产&制程升级重塑光刻胶市场天花板，预计光刻胶市场国内增速高于全

光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺，如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类繁多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等。在整个半导体芯片制造过程中，光刻是最复杂工艺，光刻工艺

目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，那有没有其他的路可走？实际上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻技术。纳米压印光刻技术是什么？1995年，华裔科学家周郁（Stephen Chou）教授首次提出纳

自从国产替代概念兴起，很少关注半导体行业的人都对光刻机有所耳闻。目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，除了全力研发光刻机，国产有没有其它的路可以走？事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻（Nano

特斯拉Optimus将搭载约40个执行器，“电机+减速器”的集成有望成为人形机器人大关节的主要动力组合，减速器需求空间将被打开，而指关节部分因体积、重量等边界条件限制，可能采用更加轻量化的技术路径。作为机器人的核心零部件，减速器、伺服系统和控制器的国产化率目前仅为36.53%、24.50%和31.2

作者：Ryan、图图、小鲨鱼Intro捷克作家卡雷尔的科幻剧《罗素姆的万能机器人》中‘机器人’一词由此诞生，它在捷克语中的意思是“劳动”。然而，随着时代的变迁，这个词的含义已经不再局限于最初的定义，如今通常指的是能够自主执行任务，或根据预设的编程和人工智能学习适应的自动化机器。 科技的飞跃

专家介绍： 数据要素这一块可能是 2019 年才提出来的。但这块相关的内容其实可以追溯到十几年前， 因为最早的时候我国是建立了电子政务外网，其实已经是在 2010 年左右的时候，已经开始 逐步建设这种各地的政府的数据共享，然后后续有一些数据开放的平台，已经把一部分的政 务数据进行了一个归集。这个时候

光芯片点评：国产替代趋势渐进，新方案有望弯道超车光芯片光模块公司今日普涨，源杰科技上涨20%、光库科技涨11%、长光华芯和仕佳光子也涨8%，光模块相关的中际旭创、天孚通信、新易盛、华工科技、博创科技也大涨。我们重申此前9月12日的观点如下：1）光芯片作为光模块的核心部件之一，在本次深圳光博会大放异彩

高能同步辐射光源（HEPS）是中科院、北京市共建怀柔科学城的核心装置，由国家发展改革委批复立项，中科院高能所承担建设，为“十三五”国家重大科技基础设施。设施建成后，将成为世界上发射度最低、亮度最高的第四代同步辐射光源之一，最“亮”的光将帮助人类更细致观察微观物质的细节，为国家解决在资源、能源、环境、

网传清华大学弯道超车光刻机新方案，冷静！科学有故事2023年09月18日 18:35:2749人参与17评论最近这一周，有一个科技新闻传的很厉害，说清华大学弄出了一种新的产生极深紫外光源的原理，可以突破光刻机的卡脖子技术难题，甚至还有很多人传说我国已经在雄安开始建设光刻工厂了，还有图有真相，说得有鼻

摩尔定律失效在即，硅光技术凭借其在高传输速率、高能效比、超低延迟等方面的突出优势，正成为半导体领域竞争的另一条赛道。全球最大芯片制造商台积电正在大举押注新兴半导体领域——硅光芯片。据媒体报道，台积电已组建了一支约200人的研发团队，瞄准明年即将到来的硅光子超高速芯片商机；该公司不仅正在积极推进硅光子

买不到好价格了 不要追

天风证券-公用事业行业周报：容量电价该如何推行？-230913　　本周专题：　　近年来伴随新能源装机规模的持续提升和电力系统改革的不断推进，火电角色也将逐渐从发电电源过渡到调节电源，因此亟需建立合理的容量补偿机制，以保障火电机组收益，提供有效的发电投资信号。本周，我们将对市场所关心的容量电价相关问题

华为、算力、服务器、智能驾驶大火，别追，来学习下减肥药

省流总结：光刻机里发生了？1.光掩模、透镜组和硅片工件台会精密对准和调平2.光源放光3.移动工件台◼ 光刻为IC制造核心工艺，光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本，在瑞利公式：𝐶𝐷 = 𝑘1𝜆/𝑁𝐴 的指导下，人类在缩短波长𝜆，增大数值孔径NA，降

根据 SEMI 数据，2021 年光刻胶在晶圆制造材料市场中占比 6.1%，而光刻胶基本被日美垄断，国产化率不足 10%。复盘国内光刻胶上市公司股价走势，半导体景气周期与自主可控两大因素对股价影响大。 ➢Fab 厂积极扩产&制程升级重塑光刻胶市场天花板，预计光刻胶市场国内增速高于全

光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺，如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类繁多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等。在整个半导体芯片制造过程中，光刻是最复杂工艺，光刻工艺

目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，那有没有其他的路可走？实际上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻技术。纳米压印光刻技术是什么？1995年，华裔科学家周郁（Stephen Chou）教授首次提出纳

自从国产替代概念兴起，很少关注半导体行业的人都对光刻机有所耳闻。目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，除了全力研发光刻机，国产有没有其它的路可以走？事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻（Nano

特斯拉Optimus将搭载约40个执行器，“电机+减速器”的集成有望成为人形机器人大关节的主要动力组合，减速器需求空间将被打开，而指关节部分因体积、重量等边界条件限制，可能采用更加轻量化的技术路径。作为机器人的核心零部件，减速器、伺服系统和控制器的国产化率目前仅为36.53%、24.50%和31.2

作者：Ryan、图图、小鲨鱼Intro捷克作家卡雷尔的科幻剧《罗素姆的万能机器人》中‘机器人’一词由此诞生，它在捷克语中的意思是“劳动”。然而，随着时代的变迁，这个词的含义已经不再局限于最初的定义，如今通常指的是能够自主执行任务，或根据预设的编程和人工智能学习适应的自动化机器。 科技的飞跃

专家介绍： 数据要素这一块可能是 2019 年才提出来的。但这块相关的内容其实可以追溯到十几年前， 因为最早的时候我国是建立了电子政务外网，其实已经是在 2010 年左右的时候，已经开始 逐步建设这种各地的政府的数据共享，然后后续有一些数据开放的平台，已经把一部分的政 务数据进行了一个归集。这个时候

光芯片点评：国产替代趋势渐进，新方案有望弯道超车光芯片光模块公司今日普涨，源杰科技上涨20%、光库科技涨11%、长光华芯和仕佳光子也涨8%，光模块相关的中际旭创、天孚通信、新易盛、华工科技、博创科技也大涨。我们重申此前9月12日的观点如下：1）光芯片作为光模块的核心部件之一，在本次深圳光博会大放异彩

高能同步辐射光源（HEPS）是中科院、北京市共建怀柔科学城的核心装置，由国家发展改革委批复立项，中科院高能所承担建设，为“十三五”国家重大科技基础设施。设施建成后，将成为世界上发射度最低、亮度最高的第四代同步辐射光源之一，最“亮”的光将帮助人类更细致观察微观物质的细节，为国家解决在资源、能源、环境、

网传清华大学弯道超车光刻机新方案，冷静！科学有故事2023年09月18日 18:35:2749人参与17评论最近这一周，有一个科技新闻传的很厉害，说清华大学弄出了一种新的产生极深紫外光源的原理，可以突破光刻机的卡脖子技术难题，甚至还有很多人传说我国已经在雄安开始建设光刻工厂了，还有图有真相，说得有鼻

摩尔定律失效在即，硅光技术凭借其在高传输速率、高能效比、超低延迟等方面的突出优势，正成为半导体领域竞争的另一条赛道。全球最大芯片制造商台积电正在大举押注新兴半导体领域——硅光芯片。据媒体报道，台积电已组建了一支约200人的研发团队，瞄准明年即将到来的硅光子超高速芯片商机；该公司不仅正在积极推进硅光子

买不到好价格了 不要追

天风证券-公用事业行业周报：容量电价该如何推行？-230913　　本周专题：　　近年来伴随新能源装机规模的持续提升和电力系统改革的不断推进，火电角色也将逐渐从发电电源过渡到调节电源，因此亟需建立合理的容量补偿机制，以保障火电机组收益，提供有效的发电投资信号。本周，我们将对市场所关心的容量电价相关问题

华为、算力、服务器、智能驾驶大火，别追，来学习下减肥药

省流总结：光刻机里发生了？1.光掩模、透镜组和硅片工件台会精密对准和调平2.光源放光3.移动工件台◼ 光刻为IC制造核心工艺，光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本，在瑞利公式：𝐶𝐷 = 𝑘1𝜆/𝑁𝐴 的指导下，人类在缩短波长𝜆，增大数值孔径NA，降

根据 SEMI 数据，2021 年光刻胶在晶圆制造材料市场中占比 6.1%，而光刻胶基本被日美垄断，国产化率不足 10%。复盘国内光刻胶上市公司股价走势，半导体景气周期与自主可控两大因素对股价影响大。 ➢Fab 厂积极扩产&制程升级重塑光刻胶市场天花板，预计光刻胶市场国内增速高于全

光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺，如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类繁多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等。在整个半导体芯片制造过程中，光刻是最复杂工艺，光刻工艺

目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，那有没有其他的路可走？实际上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻技术。纳米压印光刻技术是什么？1995年，华裔科学家周郁（Stephen Chou）教授首次提出纳

自从国产替代概念兴起，很少关注半导体行业的人都对光刻机有所耳闻。目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，除了全力研发光刻机，国产有没有其它的路可以走？事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻（Nano

特斯拉Optimus将搭载约40个执行器，“电机+减速器”的集成有望成为人形机器人大关节的主要动力组合，减速器需求空间将被打开，而指关节部分因体积、重量等边界条件限制，可能采用更加轻量化的技术路径。作为机器人的核心零部件，减速器、伺服系统和控制器的国产化率目前仅为36.53%、24.50%和31.2

作者：Ryan、图图、小鲨鱼Intro捷克作家卡雷尔的科幻剧《罗素姆的万能机器人》中‘机器人’一词由此诞生，它在捷克语中的意思是“劳动”。然而，随着时代的变迁，这个词的含义已经不再局限于最初的定义，如今通常指的是能够自主执行任务，或根据预设的编程和人工智能学习适应的自动化机器。 科技的飞跃

专家介绍： 数据要素这一块可能是 2019 年才提出来的。但这块相关的内容其实可以追溯到十几年前， 因为最早的时候我国是建立了电子政务外网，其实已经是在 2010 年左右的时候，已经开始 逐步建设这种各地的政府的数据共享，然后后续有一些数据开放的平台，已经把一部分的政 务数据进行了一个归集。这个时候

光芯片点评：国产替代趋势渐进，新方案有望弯道超车光芯片光模块公司今日普涨，源杰科技上涨20%、光库科技涨11%、长光华芯和仕佳光子也涨8%，光模块相关的中际旭创、天孚通信、新易盛、华工科技、博创科技也大涨。我们重申此前9月12日的观点如下：1）光芯片作为光模块的核心部件之一，在本次深圳光博会大放异彩

高能同步辐射光源（HEPS）是中科院、北京市共建怀柔科学城的核心装置，由国家发展改革委批复立项，中科院高能所承担建设，为“十三五”国家重大科技基础设施。设施建成后，将成为世界上发射度最低、亮度最高的第四代同步辐射光源之一，最“亮”的光将帮助人类更细致观察微观物质的细节，为国家解决在资源、能源、环境、

网传清华大学弯道超车光刻机新方案，冷静！科学有故事2023年09月18日 18:35:2749人参与17评论最近这一周，有一个科技新闻传的很厉害，说清华大学弄出了一种新的产生极深紫外光源的原理，可以突破光刻机的卡脖子技术难题，甚至还有很多人传说我国已经在雄安开始建设光刻工厂了，还有图有真相，说得有鼻

摩尔定律失效在即，硅光技术凭借其在高传输速率、高能效比、超低延迟等方面的突出优势，正成为半导体领域竞争的另一条赛道。全球最大芯片制造商台积电正在大举押注新兴半导体领域——硅光芯片。据媒体报道，台积电已组建了一支约200人的研发团队，瞄准明年即将到来的硅光子超高速芯片商机；该公司不仅正在积极推进硅光子

买不到好价格了 不要追

天风证券-公用事业行业周报：容量电价该如何推行？-230913　　本周专题：　　近年来伴随新能源装机规模的持续提升和电力系统改革的不断推进，火电角色也将逐渐从发电电源过渡到调节电源，因此亟需建立合理的容量补偿机制，以保障火电机组收益，提供有效的发电投资信号。本周，我们将对市场所关心的容量电价相关问题

华为、算力、服务器、智能驾驶大火，别追，来学习下减肥药

省流总结：光刻机里发生了？1.光掩模、透镜组和硅片工件台会精密对准和调平2.光源放光3.移动工件台◼ 光刻为IC制造核心工艺，光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本，在瑞利公式：𝐶𝐷 = 𝑘1𝜆/𝑁𝐴 的指导下，人类在缩短波长𝜆，增大数值孔径NA，降

根据 SEMI 数据，2021 年光刻胶在晶圆制造材料市场中占比 6.1%，而光刻胶基本被日美垄断，国产化率不足 10%。复盘国内光刻胶上市公司股价走势，半导体景气周期与自主可控两大因素对股价影响大。 ➢Fab 厂积极扩产&制程升级重塑光刻胶市场天花板，预计光刻胶市场国内增速高于全

光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺，如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类繁多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等。在整个半导体芯片制造过程中，光刻是最复杂工艺，光刻工艺

目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，那有没有其他的路可走？实际上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻技术。纳米压印光刻技术是什么？1995年，华裔科学家周郁（Stephen Chou）教授首次提出纳

自从国产替代概念兴起，很少关注半导体行业的人都对光刻机有所耳闻。目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，除了全力研发光刻机，国产有没有其它的路可以走？事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻（Nano

特斯拉Optimus将搭载约40个执行器，“电机+减速器”的集成有望成为人形机器人大关节的主要动力组合，减速器需求空间将被打开，而指关节部分因体积、重量等边界条件限制，可能采用更加轻量化的技术路径。作为机器人的核心零部件，减速器、伺服系统和控制器的国产化率目前仅为36.53%、24.50%和31.2

作者：Ryan、图图、小鲨鱼Intro捷克作家卡雷尔的科幻剧《罗素姆的万能机器人》中‘机器人’一词由此诞生，它在捷克语中的意思是“劳动”。然而，随着时代的变迁，这个词的含义已经不再局限于最初的定义，如今通常指的是能够自主执行任务，或根据预设的编程和人工智能学习适应的自动化机器。 科技的飞跃

专家介绍： 数据要素这一块可能是 2019 年才提出来的。但这块相关的内容其实可以追溯到十几年前， 因为最早的时候我国是建立了电子政务外网，其实已经是在 2010 年左右的时候，已经开始 逐步建设这种各地的政府的数据共享，然后后续有一些数据开放的平台，已经把一部分的政 务数据进行了一个归集。这个时候