6月10号上海光刻机所取得重要进展，14日起媒体上陆续发布：根据外媒最新的报道，上海微电子全新一代光刻机预计在2021年年底或2022年初量产下线，其采用与ASML DUV光刻机相同的光源技术，不过是国产的。 这种光源其实是科益虹源研发的，能够用在DUV设备上 。也就是说，上海微电子的全新

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