事件：23年10月23日，英伟达正式宣布全面禁售A100，A800，H100，H800和L40S，且立即生效，没有30天缓冲期。影响：在算力需求持续增加的背景下，供给完全被打断，目前国产算力替代的可能性暂时还为0。现阶段手上有卡的公司，算力价格有机会水涨船高，估值重构。之前已规划算力设施，但没有拿到

1、、造不成光刻机，就造一个光刻工厂！《物理学报》上有这样一篇论文：《稳态微聚束加速器光源》，这篇论文提出了一种创新的光刻机发展路径：“SSMB-EUV”光刻机。目前光刻工厂是我们的出路2、、国内同步辐射光源可实现EUV弯道超车清华大学合作团队在《自然》发表论文，报告了一种新型粒子加速器光源“稳态微

清华大学走的光刻机路线加速器带动的超大型基建型光工厂，国内已经在搞电子加速器一样的光源做光刻机光源，如果成功中国光刻机技术立刻进入2纳米以下，弯道超车西方技术。个人一直觉得，荷兰光刻机为了卖给其它国家，在光刻机设计上有妥协，为了方便运输，用集装箱大小限制光刻机设计。而中国是世界工厂，本地建造光刻机没

事件：23年10月23日，英伟达正式宣布全面禁售A100，A800，H100，H800和L40S，且立即生效，没有30天缓冲期。影响：在算力需求持续增加的背景下，供给完全被打断，目前国产算力替代的可能性暂时还为0。现阶段手上有卡的公司，算力价格有机会水涨船高，估值重构。之前已规划算力设施，但没有拿到

1、、造不成光刻机，就造一个光刻工厂！《物理学报》上有这样一篇论文：《稳态微聚束加速器光源》，这篇论文提出了一种创新的光刻机发展路径：“SSMB-EUV”光刻机。目前光刻工厂是我们的出路2、、国内同步辐射光源可实现EUV弯道超车清华大学合作团队在《自然》发表论文，报告了一种新型粒子加速器光源“稳态微

清华大学走的光刻机路线加速器带动的超大型基建型光工厂，国内已经在搞电子加速器一样的光源做光刻机光源，如果成功中国光刻机技术立刻进入2纳米以下，弯道超车西方技术。个人一直觉得，荷兰光刻机为了卖给其它国家，在光刻机设计上有妥协，为了方便运输，用集装箱大小限制光刻机设计。而中国是世界工厂，本地建造光刻机没

事件：23年10月23日，英伟达正式宣布全面禁售A100，A800，H100，H800和L40S，且立即生效，没有30天缓冲期。影响：在算力需求持续增加的背景下，供给完全被打断，目前国产算力替代的可能性暂时还为0。现阶段手上有卡的公司，算力价格有机会水涨船高，估值重构。之前已规划算力设施，但没有拿到

1、、造不成光刻机，就造一个光刻工厂！《物理学报》上有这样一篇论文：《稳态微聚束加速器光源》，这篇论文提出了一种创新的光刻机发展路径：“SSMB-EUV”光刻机。目前光刻工厂是我们的出路2、、国内同步辐射光源可实现EUV弯道超车清华大学合作团队在《自然》发表论文，报告了一种新型粒子加速器光源“稳态微

清华大学走的光刻机路线加速器带动的超大型基建型光工厂，国内已经在搞电子加速器一样的光源做光刻机光源，如果成功中国光刻机技术立刻进入2纳米以下，弯道超车西方技术。个人一直觉得，荷兰光刻机为了卖给其它国家，在光刻机设计上有妥协，为了方便运输，用集装箱大小限制光刻机设计。而中国是世界工厂，本地建造光刻机没

事件：23年10月23日，英伟达正式宣布全面禁售A100，A800，H100，H800和L40S，且立即生效，没有30天缓冲期。影响：在算力需求持续增加的背景下，供给完全被打断，目前国产算力替代的可能性暂时还为0。现阶段手上有卡的公司，算力价格有机会水涨船高，估值重构。之前已规划算力设施，但没有拿到

1、、造不成光刻机，就造一个光刻工厂！《物理学报》上有这样一篇论文：《稳态微聚束加速器光源》，这篇论文提出了一种创新的光刻机发展路径：“SSMB-EUV”光刻机。目前光刻工厂是我们的出路2、、国内同步辐射光源可实现EUV弯道超车清华大学合作团队在《自然》发表论文，报告了一种新型粒子加速器光源“稳态微

清华大学走的光刻机路线加速器带动的超大型基建型光工厂，国内已经在搞电子加速器一样的光源做光刻机光源，如果成功中国光刻机技术立刻进入2纳米以下，弯道超车西方技术。个人一直觉得，荷兰光刻机为了卖给其它国家，在光刻机设计上有妥协，为了方便运输，用集装箱大小限制光刻机设计。而中国是世界工厂，本地建造光刻机没

事件：23年10月23日，英伟达正式宣布全面禁售A100，A800，H100，H800和L40S，且立即生效，没有30天缓冲期。影响：在算力需求持续增加的背景下，供给完全被打断，目前国产算力替代的可能性暂时还为0。现阶段手上有卡的公司，算力价格有机会水涨船高，估值重构。之前已规划算力设施，但没有拿到

1、、造不成光刻机，就造一个光刻工厂！《物理学报》上有这样一篇论文：《稳态微聚束加速器光源》，这篇论文提出了一种创新的光刻机发展路径：“SSMB-EUV”光刻机。目前光刻工厂是我们的出路2、、国内同步辐射光源可实现EUV弯道超车清华大学合作团队在《自然》发表论文，报告了一种新型粒子加速器光源“稳态微

清华大学走的光刻机路线加速器带动的超大型基建型光工厂，国内已经在搞电子加速器一样的光源做光刻机光源，如果成功中国光刻机技术立刻进入2纳米以下，弯道超车西方技术。个人一直觉得，荷兰光刻机为了卖给其它国家，在光刻机设计上有妥协，为了方便运输，用集装箱大小限制光刻机设计。而中国是世界工厂，本地建造光刻机没