光学掩膜版，英文名MASK，是光刻工艺必备的半导体材料，也是GPU核心材料之一。在半导体材料中占比第二大，主要用于集成电路，FPD，PCB，MEMS等等，基本结构为底板+感光胶，生产工艺复杂，技术门槛极高 。

据IBS数据，在16/14nm制程中，所用掩膜成本在500万美元左右，到7nm制程时，掩膜成本迅速升至1500万美元，翻了3倍左右。良品率注定材料会多消耗

除此之外，掩模版还收益算力的增加。

传统芯片使用的掩膜版为10-30块，是核心必备品，算力需求的增大，掩膜版的需求量同比增大。以英伟达H100为例，H100所需要的掩膜版为89块，相比普通芯片增量高达三倍。随着AI高速发展，全球掩膜版供需格局将更加紧张

总结一下3支票的优势，

冠石科技，主板，容易涨停。技术团队全球顶级，掩膜版总负责人出身张汝京团队，张汝京是中芯国际创始人，不过还在准备建厂阶段

清溢光电：掩模版已经供应中芯国际，缺点科创板

路维光电：正宗掩模版，缺点科创板，如果周末科创板降低门槛那就起飞了